[實用新型]涂膠裝置

無效

• 申請號: 200820010471.0
• 申請日: 2008-01-25
• 公開（公告）號: CN201157813Y
• 公開（公告）日: 2008-12-03
• 發明（設計）人: 元金
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備有限公司
• 主分類號: B05C9/00
• 分類號: B05C9/00;B05C13/02;B05C11/10;H01L23/28
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司
• 代理人: 張志偉

技術領域：

本實用新型涉及的是一種在半導體后道封裝中的涂膠裝置，即在晶圓表面進行高粘稠度光致抗腐蝕劑的涂敷裝置。

背景技術：

目前，半導體設備的后道封裝工藝中使用的設備很多，但是對于一些較高粘稠度的光致抗腐蝕劑來說普通涂膠裝置卻有很多缺陷，因為一些較高粘稠度的光致抗腐蝕劑是由幾種有機溶劑混合攪拌組成的，不但粘度高，而且內部的有機溶劑極易揮發，經常造成制品表面的涂膠厚度不符合要求，或是涂膠后的均勻性不好。這些較高粘稠度的光致抗腐蝕劑對溫度、濕度都很敏感，如果沒有控制得當，它的粘度就會發生變化，達不到要求，從而就會使涂膠后的制品出現各種缺陷，如：大小不等的顆粒結晶等，致使后續工藝加工制成過程中，所涂覆的光致抗腐蝕劑容易脫落，產生不良后果。

實用新型內容：

為了克服上述問題，本實用新型提供一種新型封裝中的涂膠裝置，解決涂覆的較高粘稠度的光致抗腐蝕劑容易脫落等問題。該裝置不僅適用那些普通的后道封裝使用的光致抗腐蝕劑，同時也適用那些較高粘稠度的光致抗腐蝕劑，操作中通過配方來控制較高粘稠度的光致抗腐蝕劑內部溶劑的揮發，以及涂覆時旋轉腔體的氣流運動，確保被加工的晶圓的工藝質量，為后道工序打下好的基礎。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種涂膠裝置，該涂膠裝置設有上蓋、排氣及液收外部集杯、晶圓吸盤、旋轉電機、裝載晶圓托架、晶圓托架驅動氣缸，排氣及液收外部集杯內形成旋轉腔體，排氣及液收外部集杯上口裝有密封圈，涂膠裝置的上蓋通過旋轉與排氣及液收外部集杯為相對應的配合結構，由晶圓托架驅動氣缸驅動升降的裝載晶圓托架上裝有晶圓吸盤，晶圓吸盤設置于排氣及液收外部集杯的旋轉腔體內，驅動裝載晶圓托架旋轉的旋轉電機內部設有與晶圓吸盤相通的真空管路。

所述的涂膠裝置，外部蓋子和內部密封旋轉蓋子通過聯接軸連接構成涂膠裝置的上蓋，外部蓋子位于外側，內部密封旋轉蓋子位于內側，聯接軸與內部密封旋轉蓋子通過旋轉軸承配合，外部蓋子與開關蓋子驅動氣缸驅動旋轉的蓋子驅動桿連接。

所述的涂膠裝置，外部蓋子通過旋轉蓋在排氣及液收外部集杯上，使外部蓋子與排氣及液收外部集杯相閉合，形成與外界隔離的空間；內部密封旋轉蓋子下口對應于排氣及液收外部集杯上口安裝的密封圈，內部密封旋轉蓋子通過旋轉壓置于密封圈上，與密封圈緊密接觸，形成密閉的空間。

本實用新型的有益效果是：

1、本實用新型在晶圓涂覆過程中，將晶圓的旋轉空間封閉，即在空間上部加蓋子，這樣就會有效的控制光致抗腐蝕劑內部的有機溶劑揮發，從而確保了光致抗腐蝕劑在旋轉過程中的粘度，致使晶圓在一定的旋轉速度下涂膠，表面的涂膠厚度達到要求。

2、本實用新型所加的蓋子與晶圓旋轉時同步旋轉，從而使晶圓在涂膠過程中，內部的氣流得到相應的控制，使晶圓表面的氣流和光致抗腐蝕劑在晶圓表面的攤膠，勻膠等過程中相互呼應，這樣就確保了涂膠后的均勻性。

3、本實用新型結構簡單巧妙，適用于所有后道封裝工藝的制成。同時也適用于一些光照掩膜的工藝制成，所加的蓋子要求與晶圓旋轉時同步旋轉，這樣的目的是使晶圓在涂膠過程中，內部的氣流得到相應的控制，還能有效的控制光致抗腐蝕劑內部的有機溶劑揮發，從而確保了光致抗腐蝕劑在旋轉過程中的粘度。

4、由于本實用新型是封閉的裝置，能將內外的環境隔離，很好的保護環境。

附圖說明：

圖1是本實用新型的主視圖。

圖2是本實用新型的側視圖。

圖中：1蓋子驅動桿；2外部蓋子；3內部密封旋轉蓋子；4旋轉軸承；5聯接軸；6密封圈；7旋轉腔體；8排氣及液收外部集杯；9開關蓋子驅動氣缸；10晶圓吸盤；11旋轉電機；12膠體排放口；13裝載晶圓托架；14晶圓托架驅動氣缸。

具體實施方式：

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。