[發(fā)明專利]熒光粉涂布方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810306164.1 | 申請日： | 2008-12-11 |
| 公開（公告）號： | CN101749653A | 公開（公告）日： | 2010-06-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 諶秉佑;張乃文;呂英杰;江國豐;江文章 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士邁半導(dǎo)體精密工業(yè)（上海）有限公司;沛鑫能源科技股份有限公司 |
| 主分類號： | F21V9/10 | 分類號： | F21V9/10;H01L33/00;F21Y101/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201600 上海市松江區(qū)*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 熒光粉 方法 | ||
1.一種熒光粉涂布方法，該涂布方法包括步驟：
提供一個基底；
在該基底上形成一個具有親水性且溶于水的第一薄膜；
將一個具有親油性的第二薄膜涂布在該第一薄膜上，該第二薄膜 中含有熒光粉；
將形成有該第一薄膜以及第二薄膜的基底浸入水中，以使該第二 薄膜漂浮在水面上；
將光源模組與該第二薄膜接觸，以使該第二薄膜附著在該光源模 組上。
2.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該基底為 離型紙。
3.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該第一薄 膜含有聚乙烯醇。
4.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該第一薄 膜的厚度為30-80μm。
5.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該第二薄 膜含有聚氨酯。
6.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該第二薄 膜的厚度為50-250μm。
7.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該光源模 組包括發(fā)光二極管，其具有一個出光面，該第二薄膜附著于該出 光面。
8.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該光源模 組設(shè)置在一個支架上，該支架具有一個弧形表面，該光源模組設(shè) 置在該弧形表面上。
9.如權(quán)利要求8所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該支架的 弧形表面上具有多個凹槽。
10.如權(quán)利要求1所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，該第二薄 膜附著在該光源模組上后，將光源模組進(jìn)行加熱，以烘干與固化 該第二薄膜。
11.如權(quán)利要求10所述的熒光粉涂布方法，其特征在于，加熱的 溫度為50-150攝氏度。
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