[發(fā)明專利]一種具有長(zhǎng)焦深的激光裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810302456.8 | 申請(qǐng)日: | 2008-06-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101620317A | 公開(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韋安琪;陳志隆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士邁半導(dǎo)體精密工業(yè)(上海)有限公司;沛鑫半導(dǎo)體工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B27/09 | 分類號(hào): | G02B27/09;G02B17/08;G03F7/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201600上海市松江區(qū)松*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 焦深 激光 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光裝置,特別是一種具有長(zhǎng)焦深的激光裝置。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)與加工技術(shù)的進(jìn)步,各式電子元件及光學(xué)元件日趨小型化。半導(dǎo)體技術(shù)中的微影制程(Lithography),或是加工技術(shù)中的激光加工,都開始采用短波長(zhǎng)的紫外光激光裝置(UV?Laser)以使電子元件或光學(xué)元件的特征尺寸(Feature?size)及解析度(Resolution)達(dá)到要求。由于解析度R反比于λ/NA(λ為激光波長(zhǎng),NA為數(shù)值孔徑),焦深DOF(Depth?of?Focus)正比于λ/NA2,在此可理解為激光作用的有效深度正比于λ/NA2,因此若解析度(用激光光斑大小進(jìn)行評(píng)估)提高,則焦深就會(huì)下降。焦深的下降將會(huì)影響被加工物件的表面品質(zhì),例如銳利度(Sharpness)降低、粗糙度增加。因此,如何提供一種能夠使電子元件或光學(xué)元件具有較高解析度,且具有長(zhǎng)焦深的紫外光激光裝置便成為值得研發(fā)的課題。
現(xiàn)有技術(shù)中采用色差透鏡(Lens?with?chromatic?aberration)將寬頻(wide?band)激光或多波長(zhǎng)激光的焦點(diǎn)群集成一線段(不同頻段的光束被聚焦在不同的焦平面上),以延長(zhǎng)焦深。但是,此技術(shù)需要寬頻激光或多波長(zhǎng)激光,致使成本提高。另外,還可利用光學(xué)繞射元件(Diffractive?Optical?Element,DOE)來延長(zhǎng)焦深,但這種技術(shù)仍需要寬頻激光或多波長(zhǎng)激光,且存在光束的高階繞射使得光利用效率降低。有鑒于此,提供一種成本較低、光利用效率較高且具有長(zhǎng)焦深的激光裝置實(shí)為必要。
發(fā)明內(nèi)容
以下將以實(shí)施例說明一種成本較低、光利用效率較高且具有長(zhǎng)焦深的激光裝置。
一種具有長(zhǎng)焦深的激光裝置,包括:一個(gè)激光源,其用于發(fā)射單波長(zhǎng)紫外光;一個(gè)光學(xué)模組,其包括一個(gè)與設(shè)置在該單波長(zhǎng)紫外光光路上的第一光學(xué)元件,該第一光學(xué)元件具有一個(gè)鄰近該激光源的第一表面及一個(gè)與該第一表面相對(duì)的第二表面,該第一表面與該第二表面中至少一者為非球面以用于使所述單波長(zhǎng)紫外光會(huì)聚于一點(diǎn);一個(gè)第一反射元件及一個(gè)第二反射元件,該第一反射元件與該第二反射元件設(shè)置在該激光源與該第一光學(xué)元件之間,該第一反射元件的焦距f1與該第二反射元件的焦距f2,滿足以下的條件式:|f1|+|f2|=d,|f2|/|f1|=2fw/(BGDOF),其中,d表示該第一反射元件與該第二反射元件的頂點(diǎn)間距,f表示該第一光學(xué)元件的焦距,w表示該激光源發(fā)射出的單波長(zhǎng)紫外光經(jīng)由該光學(xué)模組出射后所形成的光斑的直徑,B表示該激光源發(fā)射出的單波長(zhǎng)紫外光的光束直徑,GDOF表示該激光裝置的幾何焦深。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),所述激光裝置包括一個(gè)第一光學(xué)元件,該第一光學(xué)元件所包括的第一表面與第二表面中至少一者為非球面,該非球面能夠?qū)⑺黾す庠窗l(fā)出的單波長(zhǎng)紫外光會(huì)聚于一點(diǎn),并延長(zhǎng)該激光裝置的焦深。同時(shí),該非球面不會(huì)產(chǎn)生繞射作用,能夠較大限度的會(huì)聚所述激光源發(fā)出的單波長(zhǎng)紫外光,使得該激光裝置的光利用效率較高。由于該激光裝置只包括一個(gè)具有非球面的第一光學(xué)元件,因此該激光裝置的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,制造成本較低。
附圖說明
圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例激光裝置的光路示意圖。
圖2是本發(fā)明第二實(shí)施例激光裝置的光路示意圖。
圖3是本發(fā)明第三實(shí)施例激光裝置的光路示意圖。
圖4是本發(fā)明第四實(shí)施例激光裝置的光路示意圖。
圖5是圖4所示激光裝置的部分光路放大示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
請(qǐng)參見圖1,本發(fā)明第一實(shí)施例提供的激光裝置10,其包括激光源11及光學(xué)模組12。
激光源11用于發(fā)射單波長(zhǎng)紫外光101。
光學(xué)模組12為一個(gè)透鏡,其設(shè)置在單波長(zhǎng)紫外光101的光路上。光學(xué)模組12具有一個(gè)鄰近激光源11的第一表面121,及一個(gè)與第一表面121相對(duì)的第二表面122。第一表面121為由圓錐常數(shù)(conic?constant)或非球面系數(shù)(aspheric?coefficients)定義的非球面(aspherical?surface)。第二表面122為平面。激光源11發(fā)出的單波長(zhǎng)紫外光101經(jīng)由光學(xué)模組12的第一表面121透射后被會(huì)聚到像平面13上并形成一光斑131。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士邁半導(dǎo)體精密工業(yè)(上海)有限公司;沛鑫半導(dǎo)體工業(yè)股份有限公司,未經(jīng)富士邁半導(dǎo)體精密工業(yè)(上海)有限公司;沛鑫半導(dǎo)體工業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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