[發明專利]鍍膜裝置

無效

• 申請號: 200810301697.0
• 申請日: 2008-05-21
• 公開（公告）號: CN101586231A
• 公開（公告）日: 2009-11-25
• 發明（設計）人: 顏士杰
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;G02B1/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種具有即時監控功能的鍍膜裝 置。

背景技術

當前，許多工業產品表面都鍍有功能薄膜以改善產品表面的各種性能。 如在光學鏡片的表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面的反射率，降低入 射光通過鏡片的能量損耗。又如在某些濾光元件表面鍍上一層濾光膜，可濾 掉某一預定波段的光，制成各種各樣的濾光片。一般地，鍍膜方法主要包括 離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發法、化學氣相沉積法等。Ichiki，M.等 人在2003年5月發表于2003Symposium?on?Design，Test，Integration?and? Packaging?of?MEMS/MOEMS的論文Thin?film?formation-a?fabrication?on? non-planar?surface?by?spray?coating?method中介紹了通過噴涂在非平面形成薄 膜的方法。

蒸鍍是一種物理氣相沉積技術，具體地，其通過離子束或電子束對蒸鍍 材料進行加熱，使蒸鍍材料變成氣態或離子態，而沉積在待鍍工件表面以形 成一層蒸鍍材料膜層。

在對工件進行鍍膜時，通常是將待鍍膜工件固定于鍍膜傘架上，蒸鍍靶 材設置于鍍膜傘架下方，靶材蒸發后，擴散到鍍膜工件的表面。然而在蒸鍍 的過程中，有許多原因造成雜質粒子會沉積在工件表面和鍍膜層中，例如鍍 膜腔體或鍍膜傘架上的粉塵蒸鍍過程中擴散至鍍膜內，又如靶材上有雜質或 靶材被氧化時，靶材會散發出雜質粒子，再如鍍膜操作過程中，如工件的擺 放時均會引入雜質粒子到鍍膜裝置中，最終會沉積在工件表面。隨著對光學 元件鍍膜潔凈度要求的日益提高，在元件有效光學孔徑內是幾乎不能有任何 其它雜質粒子沉積的，雜質粒子的存在導致產品的不良。

發明內容

因此，提供一種能夠即時監控工件表面和鍍膜中粒子的鍍膜裝置實為必 要。

本發明提供一種鍍膜裝置，其包括殼體及安裝在殼體內的工件承載架、 蒸鍍源、電子槍、修正板，所述工件承載架設置有多個容置通孔，用于承載 待鍍膜工件，所述蒸鍍源與所述工件承載架相對而設，所述修正板具有相對 的第一面和第二面，所述第一面與對應的蒸鍍源相對設置，所述第二面與工 件承載架相對，所述鍍膜裝置進一步包括光源和檢測裝置，所述光源設置于 修正板的第二面，所述檢測裝置與光源相對設置，使得所述光源發出的光線 通過容置通孔內的工件而到達檢測裝置。

相較于現有技術，所述鍍膜裝置包括監測裝置，通過監測裝置即時檢測 鍍膜工件表面和鍍膜層中是否有雜質粒子，根據監測的情況控制鍍膜制程是 否繼續進行，從而提高鍍膜的潔凈度，避免了鍍膜工件因存在雜質粒子而產 生的不良。

附圖說明

圖1是本技術方案第一實施例提供的鍍膜裝置的示意圖。

圖2是圖1沿II-II方向的示意圖。

圖3是本技術方案第二實施例提供的鍍膜裝置的示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖，對本技術方案作進一步的詳細說明。

請參閱圖1及圖2，第一實施例提供一種鍍膜裝置100，其包括殼體10、 以及安裝在所述殼體10內的工件承載架11、蒸鍍源12、電子槍13、修正板 14、光源15、檢測裝置16及離子源17。

所述鍍膜殼體10具有相對的頂板101、底板102以及位于頂板101和底 板10之間的側板103。頂板101、底板102及側板103圍成一個腔體104。 一般而言，腔體104與一個真空系統相連以保證腔體104內的真空度。以便 進行真空鍍膜制程。

工件承載架11安裝于所述頂板101。工件承載架11包括傘狀架體113 和旋轉軸112，傘狀架體113設置有多個容置通孔111，用于容置待鍍膜工件。 所述多個容置通孔111大小相同，本實施例中，容置通孔111于傘狀架體113 上等角度間距設置。所述旋轉軸112穿過殼體10并與外部驅動裝置相連(圖 未示)，該外部驅動裝置可以帶動旋轉軸112高速旋轉，從而帶動傘狀架體 113高速旋轉。

電子槍12、蒸鍍源13、離子源17安裝在底板102上，與工件承載架11 相對。離子源17用于對工件承載架10上的工件噴射離子束，在鍍膜的過程 中，提供額外的撞擊作用，促進鍍膜的結晶，改善鍍膜的微觀組織與致密性。