[發明專利]光圈片、光圈片的制造方法及使用該光圈片的鏡頭模組無效
| 申請號： | 200810301315.4 | 申請日： | 2008-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN101566700A | 公開（公告）日： | 2009-10-28 |
| 發明（設計）人： | 莊信弘 | 申請（專利權）人： | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00;G03F7/00;G03F7/038;B29D11/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光圈 制造 方法 使用 鏡頭 模組 | ||
1.一種光圈片，該光圈片具有中心透光區和圍繞該中心透光區的遮光區，其特征在于：該遮光區的材料為黑化的聚二甲基硅氧烷材料。
2.一種鏡頭模組，其包括光圈片，該光圈片具有中心透光區和圍繞該中心透光區的遮光區，其特征在于：該遮光區的材料為黑化的聚二甲基硅氧烷材料。
3.一種光圈片的制造方法，其特征在于：該制造方法包括以下步驟：
提供一個基底，該基底具有一個表面；
垂直于該基底表面形成若干個圓柱體；
于該若干個圓柱體之間均勻填滿黑化的聚二甲基硅氧烷材料；
固化該聚二甲基硅氧烷材料；
翻模，使該聚二甲基硅氧烷材料與該基底、該若干個圓柱體分離；
切割該聚二甲基硅氧烷材料，得到若干個光圈片。
4.如權利要求3所述的一種光圈片的制造方法，其特征在于：該聚二甲基硅氧烷材料的高度低于該圓柱體的高度。
5.如權利要求3所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于：該若干個圓柱體的形成包括以下步驟：
于該基底表面涂布一負光阻層；
對該負光阻層進行軟烤；
于該負光阻層上方加光罩，紫外光通過該光罩所限定的透光區域對該負光阻曝光，其中，該光罩所限定的透光區域為一個圓形陣列；
對該負光阻層進行曝后烤；
對該負光阻層進行顯影，去除未曝光區域的負光阻，形成若干個圓柱體。
6.如權利要求5所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于：該負光阻為環氧基紫外負性光刻膠。
7.如權利要求5所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于：該若干個圓柱體的高度大于等于50微米小于等于100微米。
8.如權利要求3所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于：利用旋轉涂布法將該聚二甲基硅氧烷材料均勻填滿至該若干個圓柱體之間。
9.如權利要求3、4、8中任一項所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于：該聚二甲基硅氧烷材料包括黑化劑和硬化劑。
10.如權利要求9所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于：該黑化劑包括碳黑和甲苯。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司，未經鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810301315.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：散熱模組及采用該散熱模組的背光模組
- 下一篇：自動測試電壓系統
