[發(fā)明專利]氣體分配裝置和等離子體加工設備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810247046.8
• 申請日: 2008-12-31
• 公開（公告）號: CN101768733A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發(fā)明（設計）人: 李永軍
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: C23C16/513
• 分類號: C23C16/513;C23F4/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明

1.一種氣體分配裝置，包括：勻流板，分別位于所述勻流板兩面的氣體進入孔和至少兩個氣體分配孔，其特征在于，

還包括：與所述氣體分配孔固定連接的分配部件；所述分配部件內具有與所述氣體分配孔連通的氣體通路，所述各個分配部件的氣體通路長度不完全相同。

2.根據權利要求1所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述分配部件為圓管狀的分配管，所述各個分配管的長度不完全相同。

3.根據權利要求2所述的氣體分配裝置，其特征在于，沿著氣體在所述勻流板內部傳輸路徑的方向，所述各個分配管按長度由小到大分布。

4.根據權利要求2所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述分配管包括至少兩組不同長度的分配管，所述至少兩組分配管分級排布。

5.根據權利要求4所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述分配管包括三組不同長度的分配管，每組分配管包括至少兩個長度相同的分配管。

6.根據權利要求5所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述氣體進氣孔位于所述勻流板的中間位置，最短的第一組分配管位于勻流板中間位置，較長的第二組分配管位于中間向外的位置，最長的第三組分配管位于勻流板的邊緣位置。

7.根據權利要求5所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述氣體進氣孔位于所述勻流板的邊緣位置，最短的第一組分配管位于勻流板邊緣位置，較長的第二組分配管位于中間向外的位置，最長的第三組分配管位于勻流板的中間位置。

8.根據權利要求1至7任一項所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述分配部件與所述氣體分配孔通過螺紋連接或密封圈連接。

9.根據權利要求1至7任一項所述的氣體分配裝置，其特征在于，所述分配部件的材料包括：石英、陶瓷或經過表面處理的金屬。

10.一種等離子體加工設備，其特征在于，包括如權利要求1至9任一項所述的氣體分配裝置。