[發(fā)明專(zhuān)利]新型高真空激光鍍膜機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810242806.6
• 申請(qǐng)日: 2008-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101497989A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-08-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顧嘯強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州市萬(wàn)泰真空爐研究所有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/26
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/26
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明為熱處理行業(yè)領(lǐng)域，特別是一種利用激光加熱來(lái)實(shí)現(xiàn)真空鍍膜的設(shè)備。

背景技術(shù)

目前的真空鍍膜機(jī)，其蒸發(fā)源主要是依靠電阻加熱或中頻加熱的方式來(lái)對(duì)蒸發(fā)源進(jìn)行加熱，加熱溫度往往不太高，隨著零部件表面的耐腐蝕和耐磨性要求的不斷增加，一些高熔點(diǎn)的耐磨材料也越來(lái)越喲了更的的市場(chǎng)。激光真空鍍膜也主要是解決高熔點(diǎn)材料在電阻和中頻加熱的情況下，蒸發(fā)源鍍膜材料無(wú)法達(dá)到沸點(diǎn)溫度而蒸發(fā)的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

真空激光鍍膜是用高功率激光束，聚焦照射到蒸鍍材料的表面，使其表面溫度達(dá)到沸點(diǎn)溫度以上，從而來(lái)蒸發(fā)鍍膜的方法。由于激光束的能量密度高，可以用來(lái)加熱蒸發(fā)那些高熔點(diǎn)的鍍膜材料，如陶瓷材料等，且能夠?qū)崿F(xiàn)化合物的蒸發(fā)沉積而不諱產(chǎn)生分餾現(xiàn)象，能蒸發(fā)任何高熔點(diǎn)材料。

具體實(shí)施方式

該設(shè)備主要由激光器、鐘罩式雙塑水冷外殼、真空系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、蒸發(fā)源坩堝等組成。如圖由1激光器，通過(guò)折射將高功光束，聚焦照射到蒸發(fā)材料的表面，即4坩堝內(nèi)，從而將鍍膜材料升溫到沸點(diǎn)揮發(fā)，從而達(dá)到真空鍍膜的目的。圖中5連接真空機(jī)組。