[發明專利]一種選擇性太陽能光熱吸收復合涂層無效
| 申請號： | 200810241894.8 | 申請日： | 2008-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN101769649A | 公開（公告）日： | 2010-07-07 |
| 發明（設計）人： | 丘仁政;陳漢文;羅賓 | 申請（專利權）人： | 深圳市鵬桑普太陽能股份有限公司 |
| 主分類號： | F24J2/48 | 分類號： | F24J2/48;B32B15/04;C23C14/34 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518000廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 選擇性 太陽能 光熱 吸收 復合 涂層 | ||
【權利要求書】：
1.一種選擇性太陽能光熱吸收復合涂層，該涂層由多層金屬與非金屬復合而成，上述的選擇性太陽能附著在金屬平板上，其特征在于：所述的涂層在金屬平板上附著的次序依次為底層，吸收層，和二氧化硅射層構成，其中的鈦-氧-鈦吸收層為通過至少兩次反應濺射過程制作。
2.根據權利要求1所述的一種選擇性太陽能光熱吸收復合涂層，其特征在于：所述的底層為不銹鋼、鉬或者鎳中的一種。
3.根據權利要求1所述的一種選擇性太陽能光熱吸收復合涂層，其特征在于：所述的底層、鈦-氧-鈦吸收層、二氧化硅的總厚度為80nm-120nm。
4.根據權利要求1所述的一種選擇性太陽能光熱吸收復合涂層，其特征在于：所述的底層-鈦-氧-鈦吸收層，和二氧化硅射層各層的厚度為，底層15nm-25nm；鈦-氧-鈦吸收層50nm-70nm；二氧化硅15nm-25nm。
5.根據權利要求3所述的一種選擇性太陽能光熱吸收復合涂層，其特征在于：所述的底層-鈦-氧-鈦吸收層，和二氧化硅射層各層的最佳厚度為，底層20nm；鋁30nm；30nm；二氧化鋁20nm。
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