[發(fā)明專利]一種選擇性太陽能吸收膜的連續(xù)制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810241892.9
• 申請日: 2008-12-30
• 公開（公告）號: CN101768725A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丘仁政;陳漢文;羅賓
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市鵬桑普太陽能股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種選擇性太陽能吸收膜的連續(xù)制備方法,該方法中主要包括基材的預(yù) 處理和真空鍍制復(fù)合膜層，所使用的鍍膜基材為金屬薄板卷材，其特 征在于：在所述的金屬薄板卷材上進(jìn)行鍍制多層復(fù)合膜層的過程是連 續(xù)進(jìn)行的，該金屬薄板卷材在收卷設(shè)備和放卷設(shè)備進(jìn)行放卷和收卷的 過程中，由設(shè)置在上述收卷設(shè)備和放卷之間的真空工藝室中對通過真 空工藝室中的卷材進(jìn)行多層復(fù)合膜層的鍍制過程，處理室和多個真空 工藝室之間利用隔離裝置進(jìn)行隔離，使連續(xù)金屬薄板卷材在連續(xù)通過 預(yù)處理室和多個真空工藝室的過程中，各室之間形成相對獨(dú)立且鍍制 條件不同的空間，具體工藝過程包括：

（1）在收卷裝置和放卷裝置上安放金屬薄板卷材，并使上述的卷材由 預(yù)處理室和多個真空工藝室中通過；

(2)打開真空泵在上述的預(yù)處理室和多個真空工藝室中形成不同的工藝 真空條件：預(yù)處理室中真空度為10^-2帕，真空工藝室上下兩個獨(dú)立的腔 體中分別設(shè)置一臺真空泵，且真空室上部腔體的真空度為0.1-0.9帕， 下部腔體中真空度為10^-2-10^-3帕；

同時運(yùn)行將金屬薄板帶材通過收卷裝置帶動依次通過預(yù)處理室和多個 真空工藝室；

(3)預(yù)處理室首先對通過的金屬薄板帶材進(jìn)行離子刻蝕處理，將表面清 潔和刻蝕，提高下一步中底層與金屬薄板帶材的結(jié)合力；

(4)在完成離子刻蝕之后，依次通過真空工藝室分別鍍制多層復(fù)合膜層 ，

(5)通過上述的這些工藝過程之后，即可以在收卷裝置上獲得成卷的帶 有選擇性吸收復(fù)合膜層的集熱板芯基材，所述的真空工藝室通過設(shè)置 在腔體中部和多個真空工藝室之間的隔離板形成相對獨(dú)立的真空環(huán)境 ，該隔離板為平板形狀，且為兩個相對設(shè)置將工藝室分隔成兩個獨(dú)立 腔體，該隔離板全部或者至少接觸部分使用柔軟的彈性材料制成，一 對隔離板對置的縫隙由 彈性材料密閉，該縫隙與帶材通過位置相應(yīng)且?guī)Р挠煽p隙中通過，該 彈性材料壓緊在金屬薄板卷材表面，對金屬薄板卷材通過的開口進(jìn)行 相對密封，真空工藝室上下兩個獨(dú)立的腔體中分別設(shè)置一臺真空泵， 且真空室上部腔體的真空度為0.1-0.9帕，下部腔體中真空度為10^-2-1 0^-3帕。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性太陽能吸收膜的連續(xù)制備方法，其特 征在于：所述的預(yù)處理室中設(shè)置離子源進(jìn)行離子刻蝕。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性太陽能吸收膜的連續(xù)制備方法，其特 征在于：離子刻蝕之后，設(shè)置四個真空工藝室，分別鍍制包括底層、 吸收層和陶瓷封閉層，其中第一個真空工藝室中負(fù)責(zé)鍍制底層中設(shè)置 有不銹鋼靶或鉬靶，反應(yīng)濺射金屬底層；第二個設(shè)置負(fù)責(zé)鍍制吸收層 ，使用鋁靶，在進(jìn)行吸收層反應(yīng)濺射的時候，要通入氮?dú)夂蜌鍤猓? 應(yīng)濺射氮化鋁吸收層；第三個同樣鍍制吸收層，使用鋁靶，要通入氮 氣和氧氣，反應(yīng)濺射氮化鋁的吸收層；第四個為陶瓷封閉層，使用鋁 靶，同時通入氧氣，反應(yīng)濺射三氧化二鋁陶瓷封閉層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性太陽能吸收膜的連續(xù)制備方法，其特 征在于：所述的預(yù)處理室和真空工藝室之間通過真空法蘭連接，其該 法蘭的內(nèi)徑大于需要鍍制的金屬薄板卷材的寬度。