[發明專利]一種鈦可動器件的制作方法

有效

• 申請號: 200810241104.6
• 申請日: 2008-12-30
• 公開（公告）號: CN101445218A
• 公開（公告）日: 2009-06-03
• 發明（設計）人: 陳兢;趙剛
• 申請（專利權）人: 北京大學
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00
• 代理公司: 北京君尚知識產權代理事務所(普通合伙）
• 代理人: 李稚婷

1.一種鈦可動器件的制作方法，包括以下步驟：

1)在鈦基片正面表面涂覆或者淀積一層掩膜；

2)根據器件形狀對掩膜進行圖形定義；

3)通過等離子體刻蝕技術從正面刻蝕鈦基片到所需深度形成刻蝕深槽；

4)除去剩余的掩膜；

5)淀積填充材料將刻蝕深槽填滿；

6)去除鈦基片表面多余的填充材料，露出鈦基片正面表面；

7)采用中間黏附層，并通過壓力鍵合的方法將鈦基片正面和另一襯底基片鍵合；

8)對鍵合后的鈦基片從背面進行化學腐蝕和化學機械拋光，至露出刻蝕深槽；

9)從鈦基片背面去除刻蝕深槽中的填充材料，釋放可動結構。

2.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步驟1)的掩膜材料為光刻膠，在步驟2)通過光刻顯影的方法直接定義圖形。

3.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步驟3)采用氯基氣體對鈦進行等離子體刻蝕。

4.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于：步驟5)所用的填充材料是有機聚合物。

5.如權利要求4所述的制作方法，其特征在于：步驟5)用于填充的有機聚合物是聚對二甲苯。

6.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步驟7)采用中間層鍵合方法，所述另一襯底基片的材料與鈦的熱膨脹系數相匹配。

7.如權利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述另一襯底基片是鈦片或鈉鈣玻璃片。

8.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步驟8)先用酸進行化學腐蝕減薄，接近刻蝕深槽時改用化學機械拋光方法精確控制減薄厚度，直至看到刻蝕圖形。

9.如權利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述步驟7)進行鍵合時不對中間層定義圖形，在步驟9)采用氧等離子體刻蝕的方法去除填充材料和可動結構下方的中間層。

10.如權利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述步驟7)先將中間層材料涂覆于另一襯底基片上，然后對中間層定義圖形，再與步驟6)所得鈦基片進行帶圖形的鍵合；在步驟9)去除深槽中的填充材料。