[發明專利]一種高光學質量硫化鋅頭罩的制備方法

有效

• 申請號: 200810240781.6
• 申請日: 2008-12-25
• 公開（公告）號: CN101760725A
• 公開（公告）日: 2010-06-30
• 發明（設計）人: 蘇小平;王鐵艷;張福昌;霍承松;魏乃光;趙永田;付利剛;黃萬才;石紅春;鄭冉;魯泥藕;孫加瀅
• 申請（專利權）人: 北京有色金屬研究總院;北京國晶輝紅外光學科技有限公司
• 主分類號: C23C16/30
• 分類號: C23C16/30;C23C16/02;C23C16/455;C23C16/52
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 童曉琳

1.一種高光學質量硫化鋅頭罩的制備方法，采用陰模內壁沉積方式，其特征在于，該方法具體實施步驟如下，

(1)用有機溶劑清洗沉積頭罩模具，并采用刷涂的方式將過渡層涂覆在襯底上，并對涂覆過渡層的襯底進行干燥處理，所述有機溶劑包括乙醇或者丙酮，所述襯底為高強度石墨材料，所述過渡層由去離子水和液態石墨制備，去離子水與液態石墨比例2∶1，所述干燥處理為在干燥箱中通氬氣保護下，升溫到100～350℃進行干燥處理；

(2)通過拼接的方式將頭罩模具安置在沉積板從底部起1/2～3/4高度處；

(3)鋅池、沉積室和卸料箱安裝完畢后，封爐，并抽真空至小于200Pa，通入氬氣調節壓力至1×10³～1×10⁴Pa，以2～5℃/min的速率對沉積系統進行升溫，當沉積室溫度達到600～750℃后，用質量流量計控制通入氣體的流量，將攜帶鋅的氬氣以10～20L/min的流速通入鋅池，將硫化氫以0.05～0.1L/min的流速及攜帶硫化氫的氬氣以1～5L/min的流速通入沉積室，通過調節真空泵的抽氣速率，保持沉積室內動態壓力為1×10³～1×10⁴Pa不變，開始發生沉積反應生長；

(4)沉積時間為20～30天，然后以0.1～0.3℃/min的降溫速率降至室溫，經切割、研磨、拋光后得到硫化鋅頭罩。