[發明專利]阿達瑪變換近紅外光譜儀檢測光的方法及光譜儀有效
| 申請號: | 200810239143.2 | 申請日: | 2008-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN101419164A | 公開(公告)日: | 2009-04-29 |
| 發明(設計)人: | 張新民 | 申請(專利權)人: | 北京華夏科創儀器技術有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/45 | 分類號: | G01N21/45 |
| 代理公司: | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 | 代理人: | 張 濤 |
| 地址: | 100085北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 阿達瑪 變換 紅外 光譜儀 檢測 方法 | ||
1.阿達瑪變換近紅外光譜儀檢測光的方法,包括入射光被準直后投射到光柵的步驟、投射到光柵的光發生第一次衍射并經準直后投射到微鏡陣列的步驟,其特征在于還包括如下步驟:
A、經微鏡陣列調制并反射的光被準直后投射到所述光柵進行第二次衍射;
B、聚焦步驟A第二次衍射的光到檢測器;
所述準直和聚焦步驟采用凹鏡反射實現,用凹鏡反射實現的準直步驟包括入射光被準直、第一次衍射后準直及步驟A中的準直步驟;所述微鏡陣列采用反射式微鏡陣列,所述光柵采用反射式光柵。
2.阿達瑪變換近紅外光譜儀,包括入射光路上依次設置的第一凹鏡、光柵、第二凹鏡和微鏡陣列,其特征在于還包括設置在入射光入射口附近的檢測器,所述第一凹鏡、光柵、第二凹鏡和微鏡陣列均為反射式器件;入射光射到第一凹鏡被準直并反射出a光;a光射到光柵被衍射并反射出b光;b光射到第二凹鏡被準直后反射出c光;c光射到微鏡陣列被調制并反射出d光;d光射到第二凹鏡被準直并反射出e光;e光射到所述光柵被衍射并反射出f光;f光射到第一凹鏡被準直后反射到所述檢測器。
3.阿達瑪變換近紅外光譜儀,包括入射光路上依次設置的第一凹鏡、光柵、第二凹鏡和微鏡陣列,其特征在于還包括設置在入射光入射口附近的檢測器,所述第一凹鏡、光柵、第二凹鏡和微鏡陣列均為反射式器件;入射光射到第一凹鏡被準直并反射出a光;a光射到光柵被衍射并反射出b光;b光射到第二凹鏡被準直后反射出c光;c光射到所述微鏡陣列被調制并反射出d光;還包括在d光光路上依次設置的第三凹鏡與第四凹鏡,第三凹鏡與第四凹鏡均為反射式器件;d光射到第三凹鏡被準直并反射出e光;e光射到所述光柵被衍射并反射出f光;f光射到第四凹鏡被準直后反射到所述檢測器。
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