[發(fā)明專利]適合于熱敏陽圖CTP的感光組合物及含該組合物的平印版有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810231574.4 | 申請日: | 2008-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN101770170A | 公開(公告)日: | 2010-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉偉;滕方遷;柴廷會;孔祥麗;吳東景;王群英 | 申請(專利權(quán))人: | 樂凱集團第二膠片廠 |
| 主分類號: | G03F7/027 | 分類號: | G03F7/027;G03F7/09 |
| 代理公司: | 鄭州中原專利事務(wù)所有限公司 41109 | 代理人: | 霍彥偉 |
| 地址: | 473003河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 適合于 熱敏 ctp 感光 組合 平印版 | ||
1.一種適合于熱敏陽圖CTP的感光組合物,其特征在于:該組合物包括下 述組分:
所述的抗溶劑型乙烯基聚合物是含有下述(a)、(b)、(c)三種結(jié)構(gòu)單元的 共聚物:
(1)具有堿溶性的結(jié)構(gòu)單元(a)
式中X1表示-O-或-NR3-,R1表示-H或-CH3,R2表示單鍵或2價的有機鍵基, Y1表示亞芳香基,n表示0或1,R3表示1-12個碳原子的烷基、環(huán)烷基、芳基 或芳烷基,Z1表示具有酸性氫原子的基團,m表示1~5的整數(shù);
(2)具有堿溶性的馬來酰亞胺類的結(jié)構(gòu)單元(b)
Z表示具有酸性氫原子的基團;
(3)具有酸致相變性質(zhì)的羧酸酯類結(jié)構(gòu)(c)
R表示烷基、環(huán)烷基、芳烷基。
所述的抗溶劑型乙烯基聚合物中,結(jié)構(gòu)式(a)所示的具有堿溶性基團的化 合物單元在乙烯基聚合物中的質(zhì)量百分含量為1~70%;結(jié)構(gòu)式(b)所示的具有 堿溶性基團的化合物單元在乙烯基聚合物中的質(zhì)量百分含量為1~70%;結(jié)構(gòu)式 (c)所示的化合物單元在乙烯基聚合物中的質(zhì)量百分含量為1~50%;
所述的抗溶劑型乙烯基聚合物的重量平均分子量為3000-20萬,數(shù)均分子量 為1500-2萬,分散度為1.1~10;
所述的乙烯基磺酸酯聚合物它是含有下述(d)、(e)、(f)三種結(jié)構(gòu)單元的 共聚物:
(1)含磺酸酯基團結(jié)構(gòu)單元(d)為:
CH2=CH-R1-SO3-R2,或CH2=CH-SO3-R2????(d)
其中R1表示苯,R2表示正丁基、異丙基、甲基、環(huán)己基;
(2)具有堿溶性的結(jié)構(gòu)單元(e)為:
R3-CH=CH-CO2-H????????????????????????(e)
其中R3表示氫或甲基;
(3)具有結(jié)構(gòu)單元(f)為:
R3-CH=CH-CO2-R4???????????????????????(f)
其中R3表示氫或甲基,R4表示丁基、甲基、乙基、羥乙基、羥丙基、叔丁 基、戊基;
所述的乙烯基磺酸酯聚合物中,結(jié)構(gòu)式(d)所示的磺酸酯基團在乙烯基磺 酸酯聚合物中的質(zhì)量百分含量為20~70%,結(jié)構(gòu)式(e)所示的具有堿溶性基團 的化合物單元在乙烯基磺酸酯聚合物中的質(zhì)量百分含量為1~20%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適合于熱敏陽圖CTP的感光組成物,其特征在于: 所述的乙烯基磺酸酯聚合物中,結(jié)構(gòu)式(d)所示的磺酸酯基團在乙烯基磺酸酯 聚合物中的質(zhì)量百分含量為30~55%,結(jié)構(gòu)式(e)所示的具有堿溶性基團的化 合物單元在乙烯基磺酸酯聚合物中的質(zhì)量百分含量為2~10%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述適合于熱敏陽圖CTP的感光組成物,其特征在于: 所述的紅外光吸收染料是含有陽離子鹽和陰離子鹽結(jié)構(gòu)的花青染料,紅外光吸 收染料在感光組合物中的質(zhì)量百分含量為3~20%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述適合于熱敏陽圖CTP的感光組成物,其特征在于: 所述的纖維素類衍生物為醋酸丁酸纖維素,醋酸丁酸纖維素在感光組合物中的 質(zhì)量百分含量為0.5~5%。
5.一種含有權(quán)利要求1~4中任意一項所述的適合于熱敏陽圖CTP的感光組 合物平版印刷版,包括支持體和感紅外激光涂層,其特征在于:感紅外激光涂 層由適合于熱敏陽圖CTP的感光組合物涂布而成。
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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