[發明專利]一種汝窯瑪瑙釉及其加工方法和應用

無效

• 申請號: 200810231387.6
• 申請日: 2008-12-16
• 公開（公告）號: CN101747089A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發明（設計）人: 郭秀貞;張天慶;張穎政;張穎裕
• 申請（專利權）人: 郭秀貞
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119
• 代理人: 陳浩

1.一種汝窯瑪瑙釉，其特征在于：含有以下重量份數的組分：瑪瑙石6~26份，長石40~65份，方解石10~23份，黑青石13~28份，斑化石3~8份，滑石2~4份，栗木灰5~10份。

2.一種如權利要求1所述汝窯瑪瑙釉的加工方法，其特征在于：包括以下步驟：

1）將瑪瑙石進行煅燒預處理，煅燒溫度為900~1200℃，粉碎為顆粒狀或者粉狀；

2）將長石，方解石，黑青石，斑化石及滑石分別進行精煉，淘洗，粉碎為顆粒狀或者粉狀；?

3）將栗木灰及步驟1）和2）中處理后的各石料按照比例均勻混合，再加水進行球磨得到釉漿；

4）調節釉漿的濃度為56~62度，然后將調節后的釉漿進行除鐵，陳腐，得到汝窯瑪瑙釉。

3.一種如權利要求1所述汝窯瑪瑙釉在汝瓷上的應用。

4.根據權利要求3所述的汝窯瑪瑙釉在汝瓷上的應用，其特征在于：包括以下步驟：

1）將攪勻的汝窯瑪瑙釉均勻的施釉在坯體上；

2）將已施釉的坯體置入窯爐中進行燒制，燒制過程中首先利用氧化火焰將燒制溫度逐漸升至900~1010℃，再利用還原火焰將燒制溫度繼續升至1220~1260℃，然后在1220~1260℃溫度下保溫燒制10~20分鐘，最后停止燒制，自然降溫至室溫，得到具有汝窯瑪瑙釉的汝瓷。

5.根據權利要求4所述的汝窯瑪瑙釉在汝瓷上的應用，其特征在于：在步驟1）中施釉之前對坯體進行預處理，該處理方法為：首先對成型的坯體進行素燒，再對素燒后的坯體進行浮塵清除，然后進行補水處理。

6.根據權利要求4所述的汝窯瑪瑙釉在汝瓷上的應用，其特征在于：步驟2）中所述利用還原火焰燒制及保溫燒制時窯爐內的氣體氣氛包含重量百分比的氧氣0.8~1.2%，一氧化碳2~9%。

7.一種汝瓷，包括坯體和釉，其特征在于：所述的坯體的組分中含有重量百分含量為5-6%的瑪瑙石；所述的釉含有以下重量份數的組分：瑪瑙石6~26份，長石40~65份，方解石10~23份，黑青石13~28份，斑化石3~8份，滑石2~4份，栗木灰5~10份。