[發明專利]一種制備高速電吸收調制器的方法無效
| 申請號: | 200810225782.3 | 申請日: | 2008-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN101738748A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 張偉;潘教青;汪洋;朱洪亮 | 申請(專利權)人: | 中國科學院半導體研究所 |
| 主分類號: | G02F1/017 | 分類號: | G02F1/017 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 周國城 |
| 地址: | 100083 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 高速 吸收 調制器 方法 | ||
技術領域
本發明涉及半導體光電子技術領域,尤其涉及一種制備高速電吸收調制器的方法,通過量子阱混雜(QWI)技術,結合常用的濕法腐蝕,干法刻蝕和光刻工藝,在不縮短器件長度的同時有效減小有源區長度,從而提高器件的調制速率,制作出性能優異的高速率電吸收調制器。
背景技術
隨著人們對聲音、數據、圖像以及交互式等寬帶業務的需求,為了能使移動通信多媒體化,通信系統必須能高速地傳送數據和圖像。但目前所用的無線頻帶帶寬比較窄,還不能進行大容量傳送。在城市中通信,微波以下的頻段均被占用,為了提高通信容量.避免信道擁擠和相互干擾,就要求無線通信能突破擁擠的低頻波段,從微波向更高頻率的毫米波段擴展,從而提供更為廣闊的傳輸帶寬。但是.無線通信易受大氣環境的影響,不能實現長距離的傳輸。
如果用光纖代替大氣作為傳輸媒質來傳輸信號,將使目前的移動通信系統達到更高的傳輸容量,同時實現超長距離的傳輸。因此,將光纖通信技術融合到無線通信網中就構成了光纖毫米波系統,即ROF(Radio?over?Fiber)系統。ROF系統對于電吸收調制器(EAM)的要求有:調制速率高,飽和光功率大,以及和光纖的耦合插損小等。
概括目前國際上報道的EAM器件,從電極結構上可以分為兩種:集總(lumped)式電極結構電吸收調制器(L-EAM)和行波(traveling-wave)電極結構電吸收調制器(TW-EAM)。
在集總式電極結構中,信號只能加載到L-EAM光波導的中央。在信號頻率提高到微波量級后,會在光波導的兩端產生很強的微波反射。一旦信號頻率超過L-EAM的截止頻率,其信號輸出強度將迅速下降,它的截止頻率主要受電阻電容時間常數限制(f=1/πRC,R一般為標準的50歐姆)。為了提高L-EAM的調制速率,必須降低其寄生電容,主要措施是減少吸收區的長度L和電極焊點直徑Φ。當L減到100μm、Φ降低到35μm以下時,管芯的制作和封裝極為困難。在行波電極結構的TW-EAM中,信號由光波導的一端加載,由于TW-EAM中的電阻、電容和電感是均勻分布在整個電極當中,只要波導的特征阻抗與輸出端的負載阻抗匹配,高頻微波信號就能與光波信號實現匹配,使微波信號的反射達到極小,從而減小RC時間常數對調制速率的限制,提高TW-EAM的高頻調制響應帶寬。但是,電容在頻率響應中仍起重要作用,減小電容有利于提高調制速率。
量子阱混雜技術(QWI)是一種外延生長后處理技術。它是利用量子阱和壘的材料原子相互擴散改變量子阱的形狀和深度,從而改變量子阱的量子化狀態。這種量子化狀態的改變通常表現為量子阱材料帶隙波長的藍移。量子阱混雜技術通常包括三個步驟:
1、在量子阱材料的表層產生大量的點缺陷;
2、在某種激勵條件下,例如快速熱退火促使點缺陷向量子阱區域移動;
3、點缺陷的移動誘導量子阱/壘材料的組份原子在界面處發生互混雜,導致材料組份發生變化,從而使帶隙波長藍移。QWI技術的主要優點為外延生長后的能帶處理技術。
發明內容
(一)要解決的技術問題
有鑒于此,本發明的注意目的在于提供一種制備高速電吸收調制器的方法,以制備出性能優異的高調制速率電吸收調制器。該調制器不僅具有高調制速率,還具有偏振不靈敏、高飽和光功率和低耦合損耗等特點。
(二)技術方案
為達到上述目的,本發明提供了一種制備高速電吸收調制器的方法,包括如下步驟:
步驟1:采用金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)方法在襯底上依次外延生長銦磷(InP)緩沖層、銦鎵砷磷(InGaAsP)下光限制層、多量子阱層(MQW)、InGaAsP上光限制層和InP注入緩沖層,得到制備高速電吸收調制器的外延片;
步驟2:對該外延片的無源波導區進行磷離子注入誘導量子阱混雜處理:
步驟3:采用金屬有機化學氣相沉積法在外延片上二次外延生長p型InP蓋層和p型銦鎵砷(InGaAs)歐姆電極接觸層;
步驟4:掩蔽有源波導區域,腐蝕掉無源波導區上的p型InGaAs歐姆電極接觸層,并對無源波導區的p型InP蓋層進行氦離子注入;
步驟5:刻出脊型波導結構;
步驟6:利用熱氧化技術生長SiO2絕緣層,腐蝕掉有源波導區上面的SiO2,蒸發金/鋅(Au/Zn)作為p型歐姆接觸金屬;
步驟7:腐蝕掉脊條兩側的下光限制層上的SiO2絕緣層,蒸發金/鍺/鎳(Au/Ge/Ni)作為n型歐姆接觸金屬;
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