[發明專利]一種電預熱與恒溫的生產高純度氫氣的膜分離裝置

無效

• 申請號: 200810218798.1
• 申請日: 2008-10-31
• 公開（公告）號: CN101406791A
• 公開（公告）日: 2009-04-15
• 發明（設計）人: 解東來;于金鳳
• 申請（專利權）人: 華南理工大學
• 主分類號: B01D53/22
• 分類號: B01D53/22;C01B3/50
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司
• 代理人: 李衛東

1.一種電預熱與恒溫的生產高純度氫氣的膜分離裝置，其特征在于：在兩盲板法蘭之 間設有多個鈀膜組件，盲板法蘭與鈀膜組件之間及鈀膜組件與鈀膜組件之間設有合成氣流 通框架，盲板法蘭與合成氣流通框架之間及合成氣流通框架與鈀膜組件之間安裝石墨墊片；

所述合成氣流通框架為方形框架，中間為空腔；方形框架與盲板法蘭或鈀膜組件形成 封閉的空間，在合成氣流通框架設有含氫合成氣導入和導出管，導入和導出管與鈀膜組件 的合成氣流通框架中的空腔連通；在合成氣流通框架四周設有凸臺，四壁設有凹槽，凹槽 內設有電加熱絲，電加熱絲的外面設有絕緣保溫材料；

所述盲板法蘭為方形板；在盲板法蘭和鈀膜組件與合成氣流通框架連接的一面四周分 別設有凹槽，凹槽內設有石墨墊圈，合成氣流通框架的凸臺與盲板法蘭和鈀膜組件上的凹 槽密封連接，在盲板法蘭的四周上開圓孔，用于組裝時螺栓固定；

所述鈀膜組件的膜支撐框架兩側分別有多孔燒結金屬支撐體和鈀合金膜，膜支撐框架 內含有被凈化氫氣氣流流通通道，該通道為兩對稱的矩形齒狀組合，通道寬度為3-5毫米， 通道之間的支撐框架為3-5毫米，氣體導出口設置在支撐框架上下兩端，與被凈化氫氣氣 流流通通道連通；所述的膜支撐框架的四周加工一用于與合成氣流通框架密封的長方形凹 槽，所述凹槽寬3-7毫米、深1-3毫米。

2.根據權利要求1所述的電預熱與恒溫的生產高純度氫氣的膜分離裝置，其特征在于： 所述合成氣流通框架四壁設置的長方形凹槽，凹槽的寬度為3-5毫米，深度為3-5毫米。

3.根據權利要求1所述的電預熱與恒溫的生產高純度氫氣的膜分離裝置，其特征在于： 所述盲板法蘭和鈀膜組件與合成氣流通框架連接的一面四周分別設有的凹槽為長方形凹 槽，所述凹槽寬度為3-7毫米、深度為1-3毫米。

4.根據權利要求1所述的電預熱與恒溫的生產高純度氫氣的膜分離裝置，其特征在于： 所述合成氣流通框架的凸臺寬度比盲板法蘭和鈀膜組件的凹槽的寬度窄0.3-0.7毫米，高 度與盲板法蘭和鈀膜組件的凹槽深度相同；

5.根據權利要求1所述的電預熱與恒溫的生產高純度氫氣的膜分離裝置，其特征在于： 所述石墨墊圈為由耐高溫的石墨制成的長方形墊圈，寬度與盲板法蘭和鈀膜組件的凹槽的 寬度相同，厚0.3-0.5毫米。