[發明專利]影響機床軌跡控制精度的形位公差分析方法和裝置

有效

• 申請號: 200810216689.6
• 申請日: 2008-10-07
• 公開（公告）號: CN101713643A
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 高云峰;肖俊君;宋福民
• 申請（專利權）人: 深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族數控科技有限公司
• 主分類號: G01B21/00
• 分類號: G01B21/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種影響機床軌跡控制精度的形位公差分析方法，其特征在于，包括：

將機床上的不同的零部件的所有形位公差組成形位公差組，在機床的動力 學模型中為關鍵部件設置待分析形位公差，所述待分析形位公差從所述形位公 差組中指定單個或多個；

以機床的驅動力矩為輸入信號，生成添加所述形位公差后的機床動力學模 型，再由動力學模型生成對應的數學模型；

調用相應的求解器對所述數學模型進行求解，獲得所述形位公差所導致的 機床運動軌跡的偏差。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在機床的動力學模型中僅設置 所述被指定的形位公差；或者在動力學模型中還設置所述形位公差組中的其他 形位公差。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，通過以下方法建立所述機床動 力學模型：

建立機床的三維數字化裝配模型；

為所述數學化裝配模型設置運動鉸；

在模型需要處設置柔性聯接，增加力元和外力。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在模型內部通過施加擾動的方 法實現形位公差的設置。

5.如權利要求1至4任一項所述的方法，其特征在于，獲得所述形位公差 所導致的機床運動軌跡的偏差后還包括：根據所獲得的偏差對所述形位公差對 機床軌跡控制精度的影響程度進行自動分析。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，根據所獲得的偏差對所述形位 公差對機床軌跡控制精度的影響程度進行自動分析具體包括：

在預置的偏差值與影響等級的對應關系中，確定與所獲得的偏差對應的影 響等級，并顯示該影響等級。

7.一種影響機床軌跡控制精度的形位公差分析裝置，其特征在于，包括：

形位公差設置單元，用于將機床上的不同的零部件的所有形位公差組成形 位公差組，在機床的動力學模型中為關鍵零部件設置待分析形位公差，所述待 分析形位公差從所述形位公差組中指定單個或多個；

數學模型生成單元，用于以機床的驅動力矩為輸入信號，生成添加所述形 位公差后的機床的動力學模型，再由所述動力學模型生成對應的數學模型；

求解單元，用于調用相應的求解器對所述數學模型進行求解，獲得所述形 位公差所導致的機床運動軌跡的偏差。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

裝配模型建立單元，用于建立機床的三維數字化裝配模型；

動力學模型建立單元，用于建立所述三維數字化裝配模型的動力學模型， 其中建立所述三維裝配模型的動力學模型具體包括：為所述數字化裝配模型設 置運動鉸；以及在模型需要處設置柔性聯接，增加力元和外力。

9.根據權利要求7或8所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：分析 單元，用于根據所獲得的偏差對所述形位公差對機床軌跡控制精度的影響程度 進行自動分析。