[發(fā)明專利]一種光刻機(jī)曝光系統(tǒng)及其控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810216174.6
• 申請(qǐng)日: 2008-09-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101364053A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張建國(guó);朱春輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清溢精密光電（深圳）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 張全文

1.一種光刻機(jī)曝光系統(tǒng)，包括依次連接的光源、光路系統(tǒng)組件、光刻鏡頭以及基板；所述光路系統(tǒng)組件將所述光源發(fā)射的光信號(hào)進(jìn)行調(diào)制處理后輸出，所述光刻鏡頭將所述光路系統(tǒng)組件輸出的光信號(hào)聚焦到所述基版上形成第一光斑；其特征在于，所述光刻機(jī)曝光系統(tǒng)還包括：光學(xué)裝置、控制器以及曝光鏡頭組合，所述控制器控制所述光學(xué)裝置將所述光源發(fā)射的光信號(hào)射出，所述曝光鏡頭組合將所述光學(xué)裝置射出的光信號(hào)聚焦到所述基版上形成第二光斑；所述第二光斑的直徑大于所述第一光斑的直徑。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)裝置包括反射鏡或折射鏡。

3.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光刻機(jī)曝光系統(tǒng)還包括：

導(dǎo)光裝置，連接所述光學(xué)裝置與所述曝光鏡頭組合，將所述光學(xué)裝置射出的光信號(hào)傳輸給所述曝光鏡頭組合。

4.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光鏡頭組合包括：光闌和凸透鏡。

5.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光刻機(jī)曝光系統(tǒng)還包括：

快門開(kāi)關(guān)，位于所述光源與所述光路系統(tǒng)組件之間，控制所述光源發(fā)射的光信號(hào)的輸出。

6.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光路系統(tǒng)組件包括：

聲光調(diào)制器，對(duì)所述光源出射的0級(jí)或1級(jí)衍射光信號(hào)進(jìn)行光強(qiáng)調(diào)節(jié)后輸出；

光學(xué)組件，根據(jù)光刻圖形控制所述聲光調(diào)制器輸出的激光強(qiáng)度并調(diào)整所述激光的光束形狀后輸出；

聲光偏轉(zhuǎn)器，根據(jù)所述光學(xué)組件輸出的光信號(hào)改變其出射角，使所述光信號(hào)以特定的頻率在一定的角度內(nèi)掃描。

7.一種權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的控制方法，其特征在于，所述控制方法包括下述步驟：

在對(duì)光刻圖形進(jìn)行處理時(shí)，將所述光刻圖形的空白區(qū)裁去；

當(dāng)需要對(duì)所述空白區(qū)曝光時(shí)，在用于控制所述光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的控制軟件中選擇相應(yīng)的曝光模式，并輸入相關(guān)參數(shù)；

控制光學(xué)裝置將光源發(fā)射的光信號(hào)射出給曝光鏡頭組合，由曝光鏡頭組合將所述光信號(hào)聚焦到基版上形成第二光斑；

平臺(tái)根據(jù)所述控制軟件中的參數(shù)進(jìn)行運(yùn)動(dòng)，使基板上的空白區(qū)被快速曝光。

8.如權(quán)利要求7所述的光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的控制方法，其特征在于，所述相關(guān)參數(shù)包括需要曝光的位置和面積。