[發明專利]用于安裝護膜的裝置和方法

無效

• 申請號: 200810214923.1
• 申請日: 2008-08-29
• 公開（公告）號: CN101377625A
• 公開（公告）日: 2009-03-04
• 發明（設計）人: 李祥熙;崔振
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/11
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 陸錦華;穆德駿

1.一種裝置，包括：

護膜壓縮板，被配置為將多個壓力施加到護膜的護膜框架接觸刻線的多個區。

2.根據權利要求1所述的裝置，還包括：

平直度測量裝置，被配置為測量所述刻線的平直度。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述護膜壓縮板被配置為：基于所述平直度測量裝置的測量而施加所述多個壓力。

4.根據權利要求3所述的裝置，其中，所述平直度測量裝置被配置為：提供所述刻線的平直度圖，該刻線的平直度圖是通過在將所述護膜安裝到所述刻線上之前測量所述刻線的平直度而獲得。

5.根據權利要求3所述的裝置，其中，所述平直度測量裝置被配置為：提供所述刻線的平直度圖，該刻線的平直度圖是通過在將所述護膜安裝到所述刻線上之后測量所述刻線的平直度而獲得。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述護膜壓縮板被配置為：根據所述刻線的對準圖而施加所述多個壓力。

7.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述多個壓力中的一個是調節壓力，用于補償并改善所述刻線的特性，其中，所述特性是所述刻線的平直度和對準中的一個。

8.根據權利要求6所述的裝置，其中，所述刻線的對準圖是通過在將所述護膜安裝到所述刻線上之前測量所述刻線的對準而獲得。

9.根據權利要求6所述的裝置，其中，所述刻線的對準圖是通過在將所述護膜安裝到所述刻線上之后測量所述刻線的對準而獲得。

10.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述刻線包括由石英形成的光掩模。

11.根據權利要求1所述的裝置，還包括：

測量所述刻線的平直度的平直度測量裝置；以及

所述護膜壓縮板進一步被配置為：根據壓力條件，在所述護膜框架接觸所述刻線的刻線區域上方，將附連壓力施加到所述護膜框架上，所述壓力條件根據由所述平直度測量裝置測量的所述刻線的平直度圖來計算。

12.根據權利要求11所述的裝置，其中，所述附連壓力具有所述護膜框架接觸所述刻線的刻線區域上的連續變化值和不連續變化值中的一個值。

13.一種安裝具有護膜框架的護膜的方法，該方法包括：

通過測量刻線的特性而產生刻線圖；以及

根據產生的所述刻線圖，將多個壓力施加到所述刻線的多個區上，在該多個區處所述護膜框架接觸所述刻線。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述刻線的特性是平直度和對準中的一個。

15.根據權利要求13所述的方法，還包括：

將所述護膜安裝到所述刻線上。

16.根據權利要求13所述的方法，還包括：

在通過測量所述刻線的特性而產生刻線圖之前，將所述護膜安裝到所述刻線上。