[發(fā)明專利]圖像感測(cè)裝置的制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810213814.8
• 申請(qǐng)日: 2008-09-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101604661A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-12-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊政霖;彭進(jìn)寶;劉宇杰;曾志翔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 采鈺科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/82
• 分類號(hào): H01L21/82;H01L27/146
• 代理公司: 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 陳 晨

1.一種圖像感測(cè)裝置的制造方法，包括：

提供一基板，具有一感測(cè)區(qū)，該感測(cè)區(qū)內(nèi)包括一像素陣列；

在該基板上涂覆一光致抗蝕劑層；

分別借助至少兩個(gè)二元半色調(diào)光掩模對(duì)該光致抗蝕劑層的至少兩個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光，其中所述多個(gè)二元半色調(diào)光掩模中第一及第二二元半色調(diào)光掩模具有不同的透光分布；以及

對(duì)該曝光后的光致抗蝕劑層進(jìn)行顯影，以形成一凸面的微透鏡陣列，其對(duì)應(yīng)于該感測(cè)區(qū)的該像素陣列，且包括至少兩個(gè)具有不同凸面輪廓的微透鏡。

2.如權(quán)利要求1所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一及該第二二元半色調(diào)光掩模具有相同的投射圖案且該投射圖案由多個(gè)非透明點(diǎn)狀圖案層分散排列而成。

3.如權(quán)利要求2所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一及該第二二元半色調(diào)光掩模具有不同的投射圖案尺寸以及不同的點(diǎn)狀圖案尺寸。

4.如權(quán)利要求3所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一二元半色調(diào)光掩模中至少兩個(gè)非透明點(diǎn)狀圖案層具有不同的點(diǎn)狀圖案尺寸。

5.如權(quán)利要求2所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一及該第二二元半色調(diào)光掩模具有相同的投射圖案尺寸且該第一二元半色調(diào)光掩模中至少兩個(gè)非透明點(diǎn)狀圖案層具有不同的點(diǎn)狀圖案尺寸。

6.如權(quán)利要求1所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一及該第二二元半色調(diào)光掩模具有不同的投射圖案，所述多個(gè)投射圖案分別由多個(gè)非透明點(diǎn)狀圖案層分散排列而成，且該第一及該第二二元半色調(diào)光掩模具有相同的投射圖案尺寸以及相同的點(diǎn)狀圖案尺寸。

7.如權(quán)利要求1所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該光致抗蝕劑層中借助該第一二元半色調(diào)光掩模進(jìn)行曝光的區(qū)域是對(duì)應(yīng)于該感測(cè)區(qū)內(nèi)該像素陣列的周圍部，而借助該第二二元半色調(diào)光掩模進(jìn)行曝光的區(qū)域是對(duì)應(yīng)于該感測(cè)區(qū)內(nèi)該像素陣列的中心部。

8.如權(quán)利要求7所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一及該第二二元半色調(diào)光掩模具有相同的投射圖案且該投射圖案由多個(gè)非透明點(diǎn)狀圖案層分散排列而成。

9.如權(quán)利要求8所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一二元半色調(diào)光掩模的投射圖案尺寸以及點(diǎn)狀圖案尺寸大于該第二二元半色調(diào)光掩模的投射圖案尺寸以及點(diǎn)狀圖案尺寸。

10.如權(quán)利要求9所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一二元半色調(diào)光掩模中至少兩個(gè)非透明點(diǎn)狀圖案層具有不同的點(diǎn)狀圖案尺寸。

11.如權(quán)利要求8所述的圖像感測(cè)裝置的制造方法，其中該第一及該第二二元半色調(diào)光掩模具有相同的投射圖案尺寸且該第一二元半色調(diào)光掩模中至少兩個(gè)非透明點(diǎn)狀圖案層具有不同的點(diǎn)狀圖案尺寸。