[發(fā)明專利]殼體及其制造方法與其應(yīng)用的電子裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810213034.3 | 申請(qǐng)日: | 2008-08-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101656033A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-02-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳衍良;簡(jiǎn)瑋君;游清皓;侯建旭;馬丁·貝爾;林佳蓉;李佳穎;黃泳杰;林其蓁;施孟萱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 和碩聯(lián)合科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G09F19/12 | 分類號(hào): | G09F19/12;G09F13/04 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 趙蓉民 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)北*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 殼體 及其 制造 方法 與其 應(yīng)用 電子 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是關(guān)于一種殼體,特別關(guān)于一種具有不同透光量變化的殼體及其制造方法與其應(yīng)用的電子裝置。
背景技術(shù)
為使告示效果不受到周遭環(huán)境亮度的影響,一般多會(huì)利用發(fā)光單元(例如燈光)以使告示牌在夜間或昏暗環(huán)境下仍具有信息告知的效果。其中較常見(jiàn)的方式是利用投射的方式以將光源照射至告示牌上,使其在黑暗的環(huán)境中利用反射光源以呈現(xiàn)出與白天近似的告示效果。
相似地,在一般的電子裝置中,為提高其辨識(shí)性(例如機(jī)種或品牌),在電子裝置的殼體上經(jīng)常設(shè)計(jì)有特定的圖樣或文字,不過(guò)此些圖形、文字或符號(hào)的設(shè)計(jì)通常僅簡(jiǎn)單地以印刷或黏貼的方式來(lái)表現(xiàn),因此在環(huán)境光線不足的情況下,無(wú)法有效地提供辨識(shí)的效果。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種利用光源提供不同告示效果的殼體及其制造方法與其應(yīng)用的電子裝置,以改善已有技術(shù)的不足。
依據(jù)本發(fā)明的一特色,殼體包括本體以及遮蔽層。本體具有呈鏡像設(shè)置的第一透光區(qū)域及第二透光區(qū)域以供該光源模塊所發(fā)出的光線通過(guò)。遮蔽層覆蓋第二透光區(qū)域,且遮蔽層的透光率具有梯度變化。
依據(jù)本發(fā)明的另一特色,電子裝置包括殼體以及光源模塊,光源模塊設(shè)置于殼體內(nèi)。殼體包括本體及遮蔽層,本體具有第一透光區(qū)域及第二透光區(qū)域以供光源模塊所發(fā)出的光線通過(guò);遮蔽層覆蓋第二透光區(qū)域,且遮蔽層的透光率具有梯度變化。
依據(jù)本發(fā)明的再一特色,殼體的制造方法包括以下步驟:首先,提供一本體。接著,形成第一透光區(qū)域及第二透光區(qū)域于本體。最后,覆蓋遮蔽層于第二透光區(qū)域,其中遮蔽層的透光率具有梯度變化。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,第一透光區(qū)域與第二透光區(qū)域的形狀相同。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,第一透光區(qū)域與第二透光區(qū)域呈現(xiàn)圖形、文字或符號(hào)。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,遮蔽層利用黏貼、噴漆、噴墨、轉(zhuǎn)印、網(wǎng)點(diǎn)印刷、網(wǎng)版印刷或印刷等方式形成。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,本體由玻璃或高分子材料所構(gòu)成。高分子材料選自聚乙烯對(duì)苯二甲酯、聚酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯及其組合所構(gòu)成的群組。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,光源模塊為直下式光源模塊或側(cè)光式光源模塊。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,形成第一透光區(qū)域及第二透光區(qū)域于本體的步驟中,利用提供色料于部分的本體以區(qū)隔出第一透光區(qū)域與第二透光區(qū)域。色料利用涂布、黏貼、噴漆、轉(zhuǎn)印或印刷等方式形成。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,形成第一透光區(qū)域及第二透光區(qū)域于本體的步驟中,利用射出成型或雙料射出以區(qū)隔出第一透光區(qū)域與第二透光區(qū)域。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,形成第一透光區(qū)域及第二透光區(qū)域于本體的步驟之后,還包括形成圖形、文字或符號(hào)于第一透光區(qū)域與第二透光區(qū)域的步驟。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,遮蔽層為單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,本體由透光材料所構(gòu)成。
承上所述,本發(fā)明利用透光區(qū)域的設(shè)置,并配合具有透光率梯度變化的遮蔽層的使用,讓使用者在視覺(jué)上具有不同光影效果。
關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以利用以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進(jìn)一步的了解。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的殼體的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的電子裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;以及
圖3為本發(fā)明較佳實(shí)施例的殼體的制造方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的殼體的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例提供的殼體包括本體1以及遮蔽層3。本體1具有呈鏡像設(shè)置的第一透光區(qū)域11及第二透光區(qū)域13,且第一透光區(qū)域11與第二透光區(qū)域13以供光源模塊所發(fā)出的光線通過(guò),例如彼此呈水平、垂直或斜向的鏡像設(shè)置。
本實(shí)施例僅以玻璃作為本體1的材質(zhì)進(jìn)行說(shuō)明,本體1亦可由高分子材料或其它透光材料所構(gòu)成,然其非用以限制本發(fā)明。其中,高分子材料選自聚乙烯對(duì)苯二甲酯(polyethyleneterephthalate)、聚酯(polyester)、聚碳酸酯(polycarbonates)、聚丙烯酸酯(polyacrylates)、聚苯乙烯(polystyrene)及其組合所構(gòu)成的群組。
于此,第一透光區(qū)域11及第二透光區(qū)域13的形狀相同,其具有符號(hào)(如圖1所示,本實(shí)施例以“LOGO”為例說(shuō)明),且第一透光區(qū)域11與第二透光區(qū)域13沿基準(zhǔn)線BL而呈鏡像設(shè)置。雖然,本實(shí)施例在第一透光區(qū)域11及第二透光區(qū)域13僅以符號(hào)作說(shuō)明,在第一透光區(qū)域11與第二透光區(qū)域13亦可呈現(xiàn)其它有意義文字或圖形。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于和碩聯(lián)合科技股份有限公司,未經(jīng)和碩聯(lián)合科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810213034.3/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





