[發明專利]應用于顯示裝置的像素結構及該顯示裝置

有效

• 申請號: 200810212905.X
• 申請日: 2008-09-04
• 公開（公告）號: CN101666908A
• 公開（公告）日: 2010-03-10
• 發明（設計）人: 莊凱丞
• 申請（專利權）人: 元太科技工業股份有限公司
• 主分類號: G02B26/02
• 分類號: G02B26/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 任永武

1.一種應用于顯示裝置的像素結構，該像素結構是利用該顯示裝置外側進入的一光線為一光源，該像素結構包含：

一第一基板；

一光阻擋層，設置于該第一基板上，具有一透光區以及一不透光區；

一有源元件，設置于該光阻擋層的該不透光區上，該有源元件具有一第一狀態以及一第二狀態；以及

一活動光遮蔽層，設置于該光阻擋層及該有源元件上，

其中當該有源元件處于該第一狀態時，該活動光遮蔽層適可覆蓋該透光區，以遮蔽該光線的至少一部分自該第一基板向外射出；以及當該有源元件處于該第二狀態時，該活動光遮蔽層受驅動，以使該光線通過該透光區，自該第一基板向外射出。

2.根據權利要求1所述的像素結構，其特征在于該光阻擋層還包含一黑矩陣，設置于該光阻擋層的該不透光區中，適以阻擋該光線。

3.根據權利要求2所述的像素結構，其特征在于還包含一電極層，設置于該有源元件以及該活動光遮蔽層之間，并電性連該有源元件，其中當該有源元件處于該第一狀態時，該電極層未施加電壓，當該有源元件處于第二狀態時，該電極層被施加一電壓而具有一電荷分布。

4.根據權利要求3所述的像素結構，其特征在于該電極層包含一銦錫氧化物層。

5.根據權利要求3所述的像素結構，其特征在于還包含一鈍化層，設置于該有源元件以及該電極層之間，用以間隔該有源元件及該電極層。

6.根據權利要求3所述的像素結構，其特征在于還包含一疏水層，設置于該電極層以及該活動光遮蔽層之間。

7.根據權利要求6所述的像素結構，其特征在于還包含一擋墻，設置于該疏水層上。

8.根據權利要求7所述的像素結構，其特征在于當該有源元件是處于該第二狀態時，該光阻擋層的該不透光區至少覆蓋該有源元件、該活動光遮蔽層以及該擋墻。

9.根據權利要求8所述的像素結構，其特征在于還包含一第二基板，與該第一基板相對設置。?

10.根據權利要求9所述的像素結構，其特征在于還包含一極性液體層，設置于該活動光遮蔽層以及該第二基板之間，其中當該有源元件處于該第一狀態時，該活動光遮蔽層覆蓋該疏水層以間隔該疏水層與該極性液體層；當該有源元件處于該第二狀態時，該極性液體層受到該疏水層所吸引而往該疏水層移動，并驅動該活動光遮蔽層往該擋墻側移動，使該光線可通過該透光區，自該第一基板向外射出。

11.根據權利要求9所述的像素結構，其特征在于還包含一反射層，設置于該第二基板上，電性連接至該有源元件，該反射層適以反射自該顯示裝置外側進入的該光線，使該光線通過該透光區，自該第一基板向外射出。

12.根據權利要求11所述的像素結構，其特征在于該反射層的材料包含鋁。

13.根據權利要求11所述的像素結構，其特征在于該反射層的材料包含鋁合金。

14.根據權利要求1所述的像素結構，其特征在于該有源元件包含至少一薄膜晶體管。

15.根據權利要求1所述的像素結構，其特征在于該活動光遮蔽層是為一非極性液體。

16.根據權利要求15所述的像素結構，其特征在于該非極性液體是一油墨。

17.根據權利要求10所述的像素結構，其特征在于該極性液體是水。

18.根據權利要求10所述的像素結構，其特征在于該極性液體是水、酒精以及鹽類物質的混合物。

19.一種顯示裝置，其特征在于包含多個如權利要求1所述的像素結構。