[發明專利]基片顯影方法及實施該方法的裝置

無效

• 申請號: 200810212716.2
• 申請日: 2008-08-29
• 公開（公告）號: CN101377626A
• 公開（公告）日: 2009-03-04
• 發明（設計）人: 吳斗榮;柳寅喆
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 上海恩田旭誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 尹洪波

相關申請的交叉引用

本申請要求2007年8月31日向韓國知識產權局(KIPO)提交的韓國 專利申請2007-880002的優先權，該申請的內容通過引用全部并入本文。

技術領域

一般地，本發明具體實施方式涉及基片顯影方法，和實現該方法的裝置。 更具體地，這些具體實施方式涉及通過將顯影液供給至基片上，使基片顯影的 方法，及實現該方法的裝置。

背景技術

在半導體或平板顯示器加工工藝中，可通過光刻法在諸如半導體晶片和玻 璃基片之類的基片上形成電路圖形。

光刻技術包括：涂層處理，將光致抗蝕劑組合物施加至基片上以在基片上 形成光致抗蝕劑膜；烘烤處理，使光致抗蝕劑膜硬化；曝光處理，將掩膜的電 路圖樣轉錄到光致抗蝕劑膜上；以及顯影處理，使用顯影液在基片上形成電路 圖樣。

通常，實現該顯影處理的裝置包括：旋轉卡盤，用于支承經曝光處理的基 片；和將顯影液施加到基片上的噴嘴。該噴嘴的長度大于基片的直徑，且可移 動地設置在基片上方。也就是說，噴嘴能夠在以與基片的上表面平行的方向移 動的同時，將顯影液施加到基片上。美國專利US6,384,894公開了一種顯影裝 置的例子。

根據US6,384,894，由旋轉卡盤支承的基片一側設置有用于清洗噴嘴的洗 槽，而噴嘴在以與基片的上表面平行的方向，從洗槽向基片的另一側移動的同 時，將顯影液施加到基片上。然而，在噴嘴返回至洗槽期間，顯影液會從噴嘴 滴到基片上，因此產生顯影瑕疵或線寬瑕疵。

為解決上述問題，在使噴嘴返回洗槽期間，將顯影液施加到基片上。對這 種情況，在使噴嘴移動至基片另一側期間，顯影液附著于噴嘴的下部。附著于 噴嘴的顯影液會轉移到基片上，從而產生顯影瑕疵或線寬瑕疵。

還有，在使噴嘴移動至基片另一側期間，可以不施加顯影液。對這種情況， 會增加進行顯影處理所需的時間。

發明內容

本發明具體實施例提供了一種能減少顯影瑕疵和線寬瑕疵，并縮短進行顯 影處理所需時間的基片顯影方法。

此外，本發明的具體實施方式提供了一種能減少顯影瑕疵和線寬瑕疵，并 縮短進行顯影處理所需時間的基片顯影裝置。

根據本發明的一些具體實施方式，一種基片顯影方法包括：使顯影噴嘴離 開設置在所述基片一側的第一洗槽，所述基片由基片支承部支承；在以水平方 向朝設置在所述基片另一側的第二洗槽移動所述顯影噴嘴期間，將顯影液施加 到所述基片上；將所述顯影噴嘴收納到所述第二洗槽內；以及在所述第二洗槽 內清洗所述顯影噴嘴。

根據本發明的一些具體實施方式，向上移動圍繞所述基片支承部設置的杯 狀結構，使得在施加所述顯影液后，所述基片被所述杯狀結構包圍，然后將清 潔液施加到基片上以清潔所述施加了顯影液的所述基片。干燥清潔后基片，然 后向下移動所述杯狀結構。

根據本發明的一些具體實施方式，一種基片顯影方法包括：在以第一水平 方向從設置在所述基片一側的第一洗槽朝設置在所述基片另一側的第二洗槽 移動顯影噴嘴期間，將顯影液首次施加到由基片支承部支承的所述基片上；在 所述第二洗槽中首次清洗所述顯影噴嘴；在以第二水平方向從所述第二洗槽朝 所述第一洗槽移動所述顯影噴嘴期間，將顯影液再次施加到所述基片上；在所 述第一洗槽內再次清洗所述顯影噴嘴。

根據本發明的一些具體實施方式，在所述首次施加顯影液之后，首次清潔 所述基片，并且在所述再次施加顯影液之后，再次清潔所述基片。此外，在再 次清潔所述基片之后，干燥所述基片。

根據本發明的一些具體實施方式，一種基片顯影裝置包括：支承所述基片 的基片支承部；可在由所述基片支承部支承的所述基片上方以水平方向移動的 顯影噴嘴，用于將顯影液施加到所述基片上；設置在所述基片支承部一側，用 于清洗所述顯影噴嘴的第一洗槽；以及設置在所述基片支承部另一側，用于清 洗所述顯影噴嘴的第二洗槽。

根據本發明的一些具體實施方式，所述基片顯影裝置還包括：與所述 第一洗槽連接的第一清洗液供給部，用于將清洗液送入所述第一洗槽，以 清洗所述顯影噴嘴；以及與所述第二洗槽連接的第二清洗液供給部，用于 將清洗液送入所述第二洗槽，以清洗所述顯影噴嘴。

根據本發明的一些具體實施方式，所述基片顯影裝置還包括圍繞所述 基片支承部設置的、可向上和向下移動的杯狀結構。