[發明專利]投影機曝光裝置、曝光方法以及元件制造方法

有效

• 申請號: 200810211496.1
• 申請日: 2004-10-26
• 公開（公告）號: CN101387754A
• 公開（公告）日: 2009-03-18
• 發明（設計）人: 白石直正
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G02B27/00
• 分類號: G02B27/00;G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 壽 寧;張華輝

1.一種照明光學裝置，將來自光源的照明光照射于掩模的圖案，其特 征在于，包括：

將前述照明光入射的偏光控制機構、將前述偏光控制機構射出的前述 照明光衍射的衍射光學元件與將前述衍射光學元件射出的前述照明光入射 的雙折射構件，

其中前述偏光控制機構，將向雙折射構件入射的前述照明光的偏光方 向切換，

前述衍射光學元件，將照射于前述掩模的圖案的前述照明光的入射角 度范圍限制在特定范圍，

前述雙折射構件，使由前述偏光控制機構切換偏光方向、且由前述衍 射光學元件限制在前述特定范圍而入射于前述掩模的圖案的前述照明光的 偏光狀態成為以S偏光為主成分的偏光狀態。

2.根據權利要求1所述的照明光學裝置，其特征在于，前述偏光控制 機構使入射的直線偏光的照明光的偏光方向改變。

3.根據權利要求1所述的照明光學裝置，其特征在于，前述偏光控制 機構包括1／2波長板與1／4波長板。

4.根據權利要求1所述的照明光學裝置，其特征在于，前述衍射光學 元件，更將照射在前述掩模的圖案的前述照明光的入射方向限制為特定的 多個離散的方向上。

5.根據權利要求1所述的照明光學裝置，其特征在于，前述雙折射構 件為不均一波長板。

6.根據權利要求5所述的照明光學裝置，其特征在于，前述雙折射構 件的形狀為連續并且微分連續的函數所表示的形狀。

7.根據權利要求5所述的照明光學裝置，其特征在于，前述雙折射構 件的形狀為在所定位置以階段性的形狀變化的階段狀的形狀。

8.根據權利要求5所述的照明光學裝置，其特征在于，前述雙折射構 件沿著前述照明光的行進方向上配置有多個。

9.根據權利要求1至8任一項所述的照明光學裝置，其特征在于，包 括光學積分器，配置于前述雙折射構件與前述掩模的圖案之間。

10.一種投影曝光裝置，其特征在于，其包括：

照明光學系統，其為權利要求1至8中任一權利要求所述的光學照明 裝置，且將從來自光源的照明光照射至掩模的圖案；以及

投影光學系統，將前述掩模的圖案的像投影于基板上。

11.一種投影曝光裝置，其特征在于，其包括：

照明光學系統，其為權利要求9所述的光學照明裝置，且將從來自光 源的照明光照射至掩模的圖案；以及

投影光學系統，將前述掩模的圖案的像投影于基板上。

12.一種曝光方法，其特征在于，使用權利要求10所述的投影曝光裝 置，以前述掩模的圖案的像，使作為前述基板的感光體曝光。

13.一種曝光方法，其特征在于，使用權利要求11所述的投影曝光裝 置，以前述掩模的圖案的像，使作為前述基板的感光體曝光。

14.一種元件制造方法，包括光刻工藝，其特征在于：

在前述光刻工藝中，使用權利要求12所述的曝光方法，將圖案轉印于 感光體。

15.一種元件制造方法，包括光刻工藝，其特征在于：

在前述光刻工藝中，使用權利要求13所述的曝光方法，將圖案轉印于 感光體。