[發明專利]各向異性磁片

有效

• 申請號: 200810211256.1
• 申請日: 2008-09-19
• 公開（公告）號: CN101392103A
• 公開（公告）日: 2009-03-25
• 發明（設計）人: 凡拉帝米爾·P.·瑞克沙;查爾斯·T.·麥肯特斯;保羅·G.·庫馬斯;羅杰·W.·菲利普;保羅·T.·科爾曼;尼爾·泰特鮑姆
• 申請（專利權）人: JDS尤尼弗思公司
• 主分類號: C09C1/00
• 分類號: C09C1/00;C09D5/36;C09D11/00;H01F7/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司
• 代理人: 鄭小粵

1.一種用于形成反射涂層的各向異性磁片，其包含層狀結構，所述層狀結構厚度范 圍為50納米到10微米，所述層狀結構為具有最長平面尺寸范圍為1-500微米的二維形 狀，并且所述層狀結構包含：

第一反射層和第二反射層，和

磁性層，所述磁性層位于所述第一反射層和所述第二反射層之間，用于在形成所述 反射涂層時，當所述各向異性磁片置于受外部磁場作用的液體載體中，使所述各向異性 磁片沿平行于所述反射涂層的表面的外部磁場方向排列；

其中，所述磁性層具有可提供面內磁各向異性的結構，所述面內磁各向異性與所述 最長平面尺寸形成至少20度的角；

其中，所述磁性層是不含光柵的連續磁性層，所述二維形狀具有彼此基本平行的兩 個邊，并且，其中所述磁性層的所述面內磁各向異性垂直于所述兩個邊，目的在于在形 成所述反射涂層時，使置于受外部磁場作用的液體載體中所述各向異性磁片與一個或多 個相同結構的各向異性磁片并排排列。

2.如權利要求1所限定的各向異性磁片，其中，所述二維形狀為具有相等或不相等 邊的矩形，并且所述磁性層的所述面內磁各向異性與所述矩形形狀的邊基本平行。

3.如權利要求1所限定的各向異性磁片，還包含標記。

4.如權利要求3所限定的各向異性磁片，其中，所述標記關于所述面內磁各向異 性的方向對稱。

5.如權利要求1所限定的各向異性磁片，進一步包含分別由所述第一反射層和所述 第二反射層支撐的第一介電層和第二介電層，分別由所述第一介電層和所述第二介電層 支撐的第一吸收層和第二吸收層，用來提供變色光學效果。

6.如權利要求1所限定的各向異性磁片，其中所述第二反射層具有大于40%的反 射率。

7.一種如權利要求1所限定的各向異性磁片的制造方法，包含如下步驟：

a)提供用于支撐可剝離涂層的襯底，其包括由磁性材料制成的所述磁性層；

b)在所述可剝離涂層應用于所述襯底之前或之后，用多個具有所述兩個邊的所述 二維形狀的框架來壓紋或刻蝕所述襯底；

c)用所述可剝離涂層涂覆所述襯底來提供具有沿第一方向的磁各向異性的所述磁 性層，所述第一方向基本垂直于所述二維形狀的所述兩個邊，其中所述可剝離涂層從所 述襯底上移除后將斷裂成所述各向異性磁片；和

d)將所述可剝離涂層從所述襯底上移除并且斷裂成所述各向異性磁片。

8.如權利要求7所限定的制造方法，其中，步驟(b)包含對所述襯底壓紋或蝕刻有 標記。

9.如權利要求7所限定的制造方法，其中，在步驟(c)中，所述襯底沿所述第一方 向移動。

10.如權利要求7所限定的制造方法，其中，所述襯底是彎曲的。

11.如權利要求7所限定的制造方法，其中，步驟(c)包括使用至少兩個所述磁性材 料源以不同角度向所述襯底的同一部分提供所述磁性材料。

12.如權利要求11所限定的制造方法，其中，所述至少兩個磁性材料源同時向所述 襯底的所述同一部分提供所述磁性材料。

13.權利要求11所限定的制造方法，其中，所述至少兩個磁性材料源在不同時間向 所述襯底的同一部分提供所述磁性材料。

14.如權利要求7所限定的制造方法，其中，步驟(c)包括將所述襯底沿所述第一 方向移動，并且使用所配置的兩個磁性材料源，以使連接所述兩個磁性材料源的線基本 垂直于所述第一方向。

15.如權利要求7所限定的制造方法，其中，步驟(c)包括將所述襯底沿所述第一 方向移動，并且使用所配置的兩個磁性材料源，以使連接所述兩個磁性材料源的線基本 平行于所述第一方向。

16.如權利要求7所限定的制造方法，其中，步驟(c)包括對在磁場中的所述磁性材 料進行退火。