[發(fā)明專利]光柵測(cè)試系統(tǒng)及方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810204953.4
• 申請(qǐng)日: 2008-12-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101464638A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 關(guān)俊;徐榮偉;韋學(xué)志;宋海軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00;G01B11/00
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 屈 蘅;李時(shí)云

1、一種光柵測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，包括：

照明模塊，用于發(fā)出平行光束；

第一反射鏡，用于將所述平行光束反射后垂直射入相位光柵；

所述相位光柵，用于將接收的光產(chǎn)生衍射光；

第二反射鏡和第三反射鏡，相對(duì)所述相位光柵的法線對(duì)稱放置，用于將所述相位光柵的正負(fù)同級(jí)衍射光進(jìn)行反射，反射后的光干涉后形成干涉條紋，干涉條紋被探測(cè)器模塊探測(cè)；

所述探測(cè)器模塊，用于探測(cè)接收到的光的光強(qiáng)信號(hào)。

2、如權(quán)利要求1所述的光柵測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

參考光柵，所述的干涉條紋經(jīng)過(guò)該參考光柵后形成透射光，所述的透射光被所述探測(cè)器模塊探測(cè)。

3、如權(quán)利要求1或2所述的光柵測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，所述第二反射鏡和第三反射鏡為一個(gè)干涉棱鏡的兩個(gè)反射面，所述第一反射鏡為一個(gè)內(nèi)反射棱鏡。

4、如權(quán)利要求3所述的光柵測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，所述的內(nèi)反射棱鏡與所述干涉棱鏡連接成一體。

5、如權(quán)利要求3所述的光柵測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，所述干涉棱鏡的兩個(gè)反射面與所述相位光柵的法線夾角為0°～90°。

6、如權(quán)利要求5所述的光柵測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，所述干涉棱鏡的兩個(gè)反射面與所述相位光柵的法線夾角均為0°。

7、一種光柵測(cè)試方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一、從照明模塊發(fā)出的平行光束經(jīng)過(guò)反射后垂直射入相位光柵；

步驟二、所述相位光柵的正負(fù)同級(jí)衍射光，分別經(jīng)過(guò)兩個(gè)相對(duì)所述相位光柵的法線對(duì)稱的反射鏡反射后再干涉，形成干涉條紋；

步驟三、探測(cè)所述干涉條紋的光強(qiáng)信號(hào)。

8、如權(quán)利要求7所述的光柵測(cè)試方法，其特征在于，所述步驟三后還包括：

步驟四、將步驟二中形成的干涉條紋經(jīng)過(guò)一個(gè)參考光柵形成透射光；

步驟五、探測(cè)所述透射光的光強(qiáng)信號(hào)。

9、如權(quán)利要求8所述的光柵測(cè)試方法，其特征在于，所述步驟五后還包括：

步驟六、將所述參考光柵或所述兩個(gè)對(duì)稱的反射鏡，以所述相位光柵的過(guò)其中心的法線為轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)90°；或者只將相位光柵繞其過(guò)其中心的法線旋轉(zhuǎn)90°；

步驟七、重復(fù)步驟一到步驟五。

10、如權(quán)利要求8或9所述的光柵測(cè)試方法，其特征在于，所述的參考光柵為菱形光柵。

11、如權(quán)利要求7至9任一項(xiàng)所述的光柵測(cè)試方法，其特征在于，所述兩個(gè)相對(duì)所述相位光柵的法線對(duì)稱的反射鏡為一個(gè)干涉棱鏡的兩個(gè)反射面。