[發明專利]一種光刻膠清洗劑組合物

無效

• 申請號: 200810203715.1
• 申請日: 2008-11-28
• 公開（公告）號: CN101750912A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發明（設計）人: 史永濤;彭洪修;曹惠英
• 申請（專利權）人: 安集微電子(上海)有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種光刻膠清洗劑組合物，包含季銨氫氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亞砜和緩蝕劑，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子數目為3～18，所述的緩蝕劑包含選自硼酸、硼酸鹽和硼酸酯中的一種或多種。

2.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的季銨氫氧化物選自四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨和芐基三甲基氫氧化銨中的一種或多種。

3.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的季銨氫氧化物的含量為0.1～10wt％。

4.如權利要求3所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的季銨氫氧化物的含量為1～5wt％。

5.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的水的含量為0.2～15wt％。

6.如權利要求5所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的水的含量為0.5～10wt％。

7.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚選自丙二醇單苯基醚、異丙二醇單苯基醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單苯基醚、二異丙二醇單苯基醚、三乙二醇單苯基醚、三丙二醇單苯基醚、三異丙二醇單苯基醚、六縮乙二醇單苯基醚、六縮丙二醇單苯基醚、六縮異丙二醇單苯基醚、丙二醇單芐基醚、異丙二醇單芐基醚和己二醇單萘基醚中的一種或多種。

8.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚的含量為0.1～65wt％。

9.如權利要求8所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚的含量為0.5～20.0wt％。

10.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的二甲基亞砜的含量為1～98wt％。

11.如權利要求10所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的二甲基亞砜的含量為30～90wt％。

12.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸鹽和硼酸酯選自硼酸、苯硼酸、2-甲基苯硼酸、3-甲基苯硼酸、4-甲基苯硼酸、2，3-二甲基苯硼酸、4-乙基苯硼酸、4-丙基苯硼酸、4-丁基苯硼酸、2-甲氧基苯硼酸、3-甲氧基苯硼酸、4-甲氧基苯硼酸、3，4-二甲氧基苯硼酸、2-羧基苯硼酸、3-羧基苯硼酸、4-羧基苯硼酸、2-羥甲基苯硼酸、3-羥甲基苯硼酸、4-羥甲基苯硼酸、2-噻吩硼酸、3-噻吩硼酸、萘硼酸、硼酸銨、四甲基硼酸銨、四乙基硼酸銨、四丙基硼酸銨、四丁基硼酸銨、芐基三甲基硼酸銨、硼酸乙醇胺鹽、硼酸二乙醇胺鹽、硼酸三乙醇胺鹽、硼酸二甘醇胺鹽、硼酸異丙醇胺鹽、硼酸甲基乙醇胺鹽、硼酸甲基二乙醇胺鹽、硼酸三甲酯、硼酸三乙酯、硼酸三丙酯、硼酸三丁酯、異戊二醇硼酸酯、雙聯鄰苯二酚硼酸酯、硼酸頻哪醇酯和硼酸咪唑啉酯中的一種或多種。

13.如權利要求12所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸鹽和硼酸酯選自硼酸、苯硼酸、2-羧基苯硼酸、2-羥甲基苯硼酸、四甲基硼酸銨、四乙基硼酸銨、硼酸乙醇胺鹽、硼酸三乙醇胺鹽、硼酸二甘醇胺鹽和雙聯鄰苯二酚硼酸酯中的一種或多種。

14.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸鹽和硼酸酯的總含量為0.01～10wt％。

15.如權利要求14所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸鹽和硼酸酯的總含量為0.1～5wt％。

16.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的光刻膠清洗劑組合物進一步含有選自極性有機共溶劑、表面活性劑和除硼酸、硼酸鹽和硼酸酯以外的其它緩蝕劑中的一種或多種。

17.如權利要求16所述的光刻膠清洗劑組合物，其特征在于，所述的極性有機共溶劑含量為≤50wt％，但不包括0wt％；所述的表面活性劑含量為≤5wt％，但不包括0wt％；所述的除硼酸、硼酸鹽和硼酸酯的緩蝕劑以外的其它緩蝕劑含量為≤5.0wt％，但不包括0wt％。