[發(fā)明專利]一種化學(xué)機(jī)械拋光液

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810200575.2
• 申請日: 2008-09-26
• 公開（公告）號: CN101684391A
• 公開（公告）日: 2010-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宋偉紅;姚穎
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務(wù)所
• 代理人: 李佳銘

1、一種化學(xué)機(jī)械拋光液，其包含磨料顆粒和水，其特征在于：其還含有下述有機(jī)鹽中的一種或多種：脂肪胺的鹽酸鹽、脂肪胺的硫酸鹽、酰胺的鹽酸鹽、酰胺的硫酸鹽、氨基酸的鹽酸鹽和氨基酸的硫酸鹽。

2、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的脂肪胺為C₁～C₈脂肪胺；所述的酰胺為C₁～C₁₀酰胺；所述的氨基酸為甘氨酸、谷氨酸、色胺酸或胱氨酸。

3、如權(quán)利要求2所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的脂肪胺為乙胺、乙二胺或三乙胺；所述的酰胺為甘氨酰胺、丙氨酰胺、蘇氨酰胺或水楊酰胺。

4、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的有機(jī)鹽的含量為質(zhì)量百分比0.01％-1％。

5、如權(quán)利要求4所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的有機(jī)鹽的含量為質(zhì)量百分比0.1-0.5％。

6、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的磨料顆粒為二氧化硅、氧化鋁、氧化鈰和聚合物顆粒中的一種或多種。

7、如權(quán)利要求6所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的磨料顆粒為二氧化硅溶膠顆粒。

8、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的磨料顆粒的粒徑為10-200nm。

9、如權(quán)利要求8所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的磨料顆粒的粒徑為20-150nm。

10、如權(quán)利要求9所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的磨料顆粒的粒徑為30-80nm。

11、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的磨料顆粒的含量為質(zhì)量百分比5-30％。

12、如權(quán)利要求11所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的磨料顆粒的含量為質(zhì)量百分比10-20％。

13、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于：所述的化學(xué)機(jī)械拋光液的pH值為1-3或10-12。