[發明專利]一種莫來石—高硅氧玻璃復相材料及其制備方法無效
| 申請號: | 200810197923.5 | 申請日: | 2008-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN101423408A | 公開(公告)日: | 2009-05-06 |
| 發明(設計)人: | 李遠兵;祝泉;代旭娟;智利彪;趙雷;牛琛雁;李亞偉;金勝利;李淑靜;桑紹柏 | 申請(專利權)人: | 武漢科技大學 |
| 主分類號: | C04B35/66 | 分類號: | C04B35/66;C04B35/10;C04B35/185 |
| 代理公司: | 武漢開元專利代理有限責任公司 | 代理人: | 樊 戎 |
| 地址: | 430081*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 莫來石 高硅氧 玻璃 材料 及其 制備 方法 | ||
1、一種莫來石—高硅氧玻璃復相材料的制備方法,其特征在于先將60~100wt%的電熔剛玉除塵粉和0~40wt%的SiO2細粉混和,經攪拌后成型;然后在空氣氣氛下于反應爐中以2~5℃/min的升溫速度升溫,升溫至1300~1600℃,保溫2~8h,自然冷卻。
2、根據權利要求1所述的莫來石-高硅氧玻璃復相材料的制備方法,其特征在于所述的電熔剛玉除塵粉為電熔棕剛玉除塵粉、電熔亞白剛玉除塵粉中的一種以上,電熔剛玉除塵粉的粒徑小于100μm,電熔剛玉除塵粉的主要化學組分是:Al2O3為20~56wt%、SiO2為10~50wt%、K2O為0.3~20wt%。
3、根據權利要求1所述的莫來石—高硅氧玻璃復相材料的制備方法,其特征在于所述的SiO2細粉為硅微粉、石英粉和石英玻璃粉中的一種以上,SiO2細粉的粒徑小于100目。
4、根據權利要求1所述的莫來石—高硅氧玻璃復相材料的制備方法,其特征在于所述的反應爐為氣氛爐、電弧爐、感應爐和燒結爐中的一種。
5、根據權利要求1~4項中的任一項所述的莫來石—高硅氧玻璃復相材料的制備方法所制備的莫來石—高硅氧玻璃復相材料。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢科技大學,未經武漢科技大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810197923.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





