[發明專利]一種硬質合金沖壓模具的制作方法

無效

• 申請號: 200810197859.0
• 申請日: 2008-11-21
• 公開（公告）號: CN101419402A
• 公開（公告）日: 2009-04-29
• 發明（設計）人: 李曉平;史鐵林;陳建軍;湯自榮;黃光;陳志凌;劉世元
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F1/08;G03F1/00
• 代理公司: 華中科技大學專利中心
• 代理人: 方 放

1.一種硬質合金沖壓模具的制作方法，包括：

（1）涂膠步驟：模具在100℃～250℃溫度下烘烤后，在模具表面均勻涂覆光刻膠，再烘烤，烘烤溫度和時間依據光刻膠對應的參數確定；所述光刻膠為正性光刻膠或負性光刻膠，涂覆厚度0.5μm～260μm；

（2）曝光步驟：把制作好的光刻掩模板置于涂覆光刻膠的模具表面，用紫外光曝光方式將光刻掩模板圖紋轉移到光刻膠上，曝光能量依據生產商給出的該光刻膠需要的參數確定；正性光刻膠使用正性光刻掩模板，負性光刻膠使用負性光刻掩模板；

（3）顯影步驟：用顯影液將需要凹下部位的光刻膠沖掉，露出模具金屬表面，留下需要凸出部位的光刻膠，用純水清洗，氮氣吹干，顯影時間依據光刻膠生產商給出的參數確定；不同的光刻膠對應使用相應的顯影液；

（4）堅膜步驟：對顯影后模具表面留下的光刻膠進行老化處理，形成耐刻蝕保護層，老化處理的溫度與時間依據光刻膠生產商給出的參數確定；

（5）側、背面保護步驟：將模具側面和背面用油漆涂敷；

（6）刻蝕步驟：采用干法刻蝕或濕法刻蝕對模具各部分分別進行刻蝕；干法刻蝕采用感應耦合刻蝕或反應離子刻蝕，刻蝕線條的寬度、深度，由刻蝕的時間，選用的氣體種類，線圈功率，平板功率大小決定，選用的氣體為Cl₂?、BCl₃、Ar、?SF₆、CF₄、O_2?中的一種或兩種；濕法刻蝕的刻蝕劑為硝酸、鹽酸、硫酸、鉻酸中的一種；

（7）去膠步驟：用光刻膠對應的溶劑浸泡去模具，去除表面光刻膠，丙酮去除側邊油漆后，純水沖洗，氮氣吹干模具；

（8）鍍鉻步驟：用有機溶劑清洗模具，在模具表面鍍鉻，所述有機溶劑為丙酮、乙醇中的一種或多種；

其特征在于：

所述刻蝕步驟采取干法刻蝕時，（A）所述涂膠步驟之前，先在拋光的模具表面鍍鎳，厚度為200nm～3μm；（B）在刻蝕步驟中，先用硝酸、鹽酸、硫酸、鉻酸中的一種去除顯影后暴露出的鎳層部分，然后再用干法刻蝕對模具進行刻蝕。