[發(fā)明專利]網(wǎng)狀電極材料及其制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810185512.4
• 申請日: 2008-12-12
• 公開（公告）號: CN101458432A
• 公開（公告）日: 2009-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 中村卓;荒勝浩;立石朋美
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02F1/167
• 分類號: G02F1/167;G02F1/1343;G02F1/155;G09F9/00;H01L31/0224;H01L51/52
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 朱 丹

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種網(wǎng)狀電極材料、切斷該網(wǎng)狀電極材料獲得的電極材 料、使用該電極材料的電子元件及網(wǎng)狀電極材料的制造方法。

背景技術(shù)

到目前為止，作為在基材上層疊電極層和功能層，設(shè)計(jì)電極層露出的 部分、和在電極層之上設(shè)置了功能層的部分的方法，已知以下幾種方法。

一種方法是：在整個(gè)表面上涂敷紫外線(UV)固化型樹脂層(光刻 膠)，通過掩膜進(jìn)行使用UV的圖形曝光，僅在通過顯影而露出的電極層 之上保留樹脂層，在其之上進(jìn)行相同涂敷，從而設(shè)置功能層，最后洗掉電 極層之上的樹脂層，露出電極層。

此外，作為其它方法，執(zhí)行以下方法：在電極層的整個(gè)表面上涂敷功 能層，在該功能層上整面涂敷光刻膠后，進(jìn)行圖形曝光，剝離功能層中去 除的部分的抗蝕劑，露出功能層，并溶解去除此部分功能層后，剝離剩余 的抗蝕劑，從而獲得已構(gòu)圖的功能層。

但是，這些方法不僅需要許多工序，而且為了在電極層上的涂膜層(光 刻膠層或功能層等)之上粘合掩膜并進(jìn)行曝光不得不進(jìn)行單片處理，難以 在低成本的情況下進(jìn)行大量生產(chǎn)。此外，在溶解從而去除功能層的情況下， 在該溶解工序中，會產(chǎn)生或損傷作為下層的電極層、或殘留功能層的未溶 解部分這樣的問題。此外，還產(chǎn)生不能完全剝離抗蝕劑的情況、和溶解的 抗蝕劑造成表面污染等問題。這些問題導(dǎo)致功能劣化、品質(zhì)穩(wěn)定性下降、 可靠性劣化。

因此，就對上述問題進(jìn)行各種研究。

例如，在專利文獻(xiàn)1中，公開了一種通過電解淀積在電極層的表面上 形成絕緣性樹脂層的方法。在專利文獻(xiàn)1所述的方法中，雖然通過利用電 極圖形的電解淀積法能夠選擇性地僅在電極層上設(shè)置功能層，但是事實(shí)上 卻不可能使電極層的一部分露出并在此電極層上設(shè)置功能層、以及用連續(xù) 它的網(wǎng)進(jìn)行制造。

此外，分別在專利文獻(xiàn)2中記載了一種使用多個(gè)印模型涂敷裝置的多 層涂敷方式，在專利文獻(xiàn)3中記載了一種使用擠壓型涂敷頭進(jìn)行二層以上 的同時(shí)疊層涂敷的涂敷裝置，在專利文獻(xiàn)4中記載了一種使用多層涂敷用 印模的、進(jìn)行滑動涂敷(slide?coat)或幕式涂敷(curtain?coat)的多層涂 敷裝置。但是，在專利文獻(xiàn)2～4中，沒有記載關(guān)于保留電極層中露出的 部分(通常相當(dāng)于引出電極的部分)從而在電極層上設(shè)置功能層的方法， 事實(shí)上就不可能使電極的一部分露出、設(shè)置多個(gè)功能層。

此外，在專利文獻(xiàn)5中記載了一種電子照相感光體制造用的浸漬涂敷 裝置。該裝置雖然能夠在電極層整面上設(shè)置功能層，但使電極的一部分露 出、設(shè)置功能層極其困難，事實(shí)上也是不可能的。

在專利文獻(xiàn)6中記載了一種通過預(yù)壓印(stamp)在支持體上形成親/ 疏水性區(qū)域、在其上全面涂敷功能層用的涂敷液、僅在親水性區(qū)域上設(shè)置 功能層的方法。但是，為了產(chǎn)生壓印的效果，需要使用強(qiáng)堿，通常用于電 極層的導(dǎo)電材料ZnO、ITO、Al、Ag等缺乏耐強(qiáng)堿性，應(yīng)用困難。

并且，在連續(xù)網(wǎng)上層疊功能層的情況下，雖然涂敷中通常為了使突緣 部(網(wǎng)的端部)的膜厚變厚，而使上部的功能層比下部的功能層涂敷寬度 變窄來進(jìn)行涂敷，但這樣進(jìn)行層疊時(shí)，由于端部未層疊功能層，只有從已 露出的電極直至多個(gè)功能層的一部分未被涂敷的部分不具有顯示元件的 功能，因此就只能獲得圍繞邊緣厚的緣框的顯示元件。

即，在基材上以此順序設(shè)置電極層和功能層，具有電極層露出的部分、 和在電極層之上設(shè)置了功能層的部分的電極材料的制造中，在使用光刻膠 等的單片處理中，工序復(fù)雜、生產(chǎn)效率差，難以大量地大面積制造，并且 產(chǎn)生性能差異，導(dǎo)致品質(zhì)穩(wěn)定性、可靠性下降。

此外，在電極層之上設(shè)置功能層時(shí)，在上述的連續(xù)涂敷方法中，實(shí)質(zhì) 上不能制造網(wǎng)狀電極材料。

除此以外，為了切斷由現(xiàn)有的連續(xù)涂敷方法制作的網(wǎng)狀電極材料用作 電極材料，需要使電極層露出的工序，并且由于電極層比功能層小，所以 在電極層的周圍會產(chǎn)生浪費(fèi)的部分，并且通過切斷的端面而使對置電極間 短路等，也產(chǎn)生上述的問題。

專利文獻(xiàn)1：JP特開2001-73193號公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：JP特開2000-185254號公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：JP特開2004-25002號公報(bào)

專利文獻(xiàn)4：JP特開2003-117463號公報(bào)

專利文獻(xiàn)5：JP特開平11—119451號公報(bào)

專利文獻(xiàn)6：JP特開2007-12878號公報(bào)