[發(fā)明專利]聚合物電解質(zhì)及其制備方法和包括該聚合物電解質(zhì)的電池有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810180116.2 | 申請(qǐng)日: | 2008-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101735589A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C08L71/02 | 分類號(hào): | C08L71/02;C08K3/30;C08K3/24;C08K3/32;C08K3/38;C08K5/435;C08K5/42;C08J5/18;H01M10/40 |
| 代理公司: | 北京潤平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283 | 代理人: | 陳小蓮;王鳳桐 |
| 地址: | 518118 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聚合物 電解質(zhì) 及其 制備 方法 包括 電池 | ||
1.一種聚合物電解質(zhì),該聚合物電解質(zhì)含有聚氧化乙烯、鋰鹽和摻雜 劑,其特征在于,所述摻雜劑為非水溶性的金屬硫化物,所述鋰鹽與聚氧化 乙烯中氧化乙烯結(jié)構(gòu)單元的摩爾比為1∶5-25,所述非水溶性的金屬硫化物與 聚氧化乙烯中氧化乙烯結(jié)構(gòu)單元的摩爾比為1∶2-30。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物電解質(zhì),其中,所述非水溶性的金屬 硫化物為硫化銅、硫化鉛或硫化鋅中的一種或幾種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物電解質(zhì),其中,鋰鹽與聚氧化乙烯中 氧化乙烯結(jié)構(gòu)單元的摩爾比為1∶7-15,非水溶性的金屬硫化物與聚氧化乙烯 中氧化乙烯結(jié)構(gòu)單元的摩爾比為1∶10-25。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的聚合物電解質(zhì),其中,該聚合 物電解質(zhì)還含有水溶性的硫化物。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的聚合物電解質(zhì),其中,所述水溶性的硫化物 與非水溶性的金屬硫化物的摩爾比為0.1-1∶1,所述水溶性的硫化物為硫化 鈉、硫化氫、硫化鉀中的一種或幾種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的聚合物電解質(zhì),其中,所述非水溶性的 金屬硫化物的粒子直徑為30-100納米,所述聚氧化乙烯的數(shù)均分子量為 1.01×106-5.5×107,所述鋰鹽為LiClO4、LiPF6、LiBF4、LiBOB、LiN(SO2CF3)2、 LiCF3SO3、LiN(SO2CF2CF3)2中的一種或幾種。
7.一種聚合物電解質(zhì)的制備方法,其特征在于,該方法包括在聚氧化 乙烯存在下將含有金屬離子的溶液與含有硫離子的溶液接觸,在所述含有金 屬離子的溶液中金屬離子與聚氧化乙烯中氧化乙烯結(jié)構(gòu)單元的摩爾比為 1∶2-30;將接觸后的產(chǎn)物與鋰鹽混合均勻,所述鋰鹽與聚氧化乙烯中氧化乙 烯結(jié)構(gòu)單元的摩爾比為1∶5-25,并將混合均勻后的產(chǎn)物進(jìn)行成膜,所述金屬 離子為非水溶性的金屬硫化物的金屬離子,分別以所述金屬離子和硫計(jì),所 述含有金屬離子的溶液與含有硫離子的溶液的用量的摩爾比為1∶1-2。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其中,在所述含有金屬離子的溶 液中金屬離子的摩爾濃度為0.3-1摩爾/升,在所述含有硫離子的溶液中硫離 子的摩爾濃度為0.1-2摩爾/升,形成所述含有金屬離子的溶液和含有硫離子 的溶液的溶劑各自為水、乙腈、四氫呋喃中的一種或幾種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制備方法,其中,所述含有金屬離子的 溶液中的金屬離子為銅離子、鉛離子或鋅離子中的一種或幾種;所述含有硫 離子的溶液為硫化鈉、硫化氫、硫化鉀中的一種或幾種的溶液;所述鋰鹽為 LiClO4、LiPF6、LiBF4、LiBOB、LiN(SO2CF3)2、LiCF3SO3、LiN(SO2CF2CF3)2中的一種或幾種;所述聚氧化乙烯的數(shù)均分子量為1.01×106-5.5×107。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,其中,所述含有金屬離子的溶液 為氯化銅、硝酸銅、硫酸銅、醋酸銅、硫酸四氨合銅、聚氯乙烯-雙硫腙-銅、 醋酸鉛、氯化鉛、醋酸鋅、硫酸鋅和氯化鋅中的一種或幾種的溶液。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其中,所述接觸的條件包括溫度 為40-60℃,時(shí)間為5-12小時(shí)。
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