[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和器件制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810179765.0 | 申請日: | 2008-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN101452220A | 公開(公告)日: | 2009-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | S·N·L·冬德爾斯;N·頓凱特;L·H·J·斯迪文斯;R·范德漢姆;M·瑞蓬 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光刻 設(shè)備 器件 制造 方法 | ||
1.一種浸沒光刻設(shè)備,包括:
表面,所述表面至少周期地接觸浸沒液體;和
主動浸沒液體控制系統(tǒng),包括:
第一電極,其電連接到將在所述表面上受控制的浸沒液體,
第二電極,其與所述表面結(jié)合并與位于所述表面上的浸沒液體電 隔離,和
電壓控制器,其構(gòu)造成在第一和第二電極之間提供受控的電壓 差。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述表面是抽取裝置的多孔元件的 表面。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其中所述多孔元件的至少一部分用作 所述第一或第二電極。
4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其中所述多孔元件包括由形成所述第 二電極的電傳導(dǎo)材料形成的中心部分,和電絕緣材料的涂敷層。
5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其中所述第一電極電連接到位于多孔 元件的側(cè)邊的浸沒液體,浸沒液體通過抽取裝置被抽取至多孔元件的所述 側(cè)邊。
6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述主動浸沒液體控制系統(tǒng)包括:
多個第一電極,配置在所述表面上使得位于所述表面上的浸沒液體的 液滴能夠電連接到至少一個第一電極;和
多個第二電極,配置在所述表面上使得位于所述表面上的浸沒液體的 任何液滴與所述第二電極電隔離。
7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備,構(gòu)造成在所述第一電極和所述第二電 極之間提供電壓差,所述電壓差導(dǎo)致位于所述表面上的浸沒液體的液滴的 電浸濕,所述液滴與至少一個所述第一電極接觸使得每個液滴在所述表面 上展開。
8.如權(quán)利要求6或7所述的設(shè)備,其中所述主動浸沒液體控制系統(tǒng) 構(gòu)造成控制位于至少一個表面上的浸沒液體,所述表面選自下面的表面: 浸沒光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)的表面,所述投影系統(tǒng)構(gòu)造成將圖案化的輻射束 投影到襯底上;襯底臺的表面,所述襯底臺構(gòu)造成支撐襯底;和浸沒系統(tǒng) 的表面,所述浸沒系統(tǒng)構(gòu)造成供給浸沒液體到投影系統(tǒng)的最終元件和襯底 之間的空隙。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,還包括:
襯底臺,其構(gòu)造成保持襯底,所述襯底臺包括:
所述第二電極,和
其中至少周期地接觸浸沒液體的所述表面是所述襯底臺的表面、
當(dāng)襯底臺支撐襯底時襯底的表面,或襯底臺和襯底兩者的表面。
10.如權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其中所述襯底臺包括:
多個第二電極,所述第二電極彼此電隔離并且與位于所述表面上的浸 沒液體電隔離,并且所述電壓控制器構(gòu)造成獨(dú)立地控制位于所述第一電極 和每個所述第二電極之間的電壓差。
11.如權(quán)利要求9或10所述的設(shè)備,構(gòu)造成使得:在使用時,基本 上所述襯底的整個主表面覆蓋有浸沒液體,和其中所述電壓控制器構(gòu)造成 在所述第一電極和與所述襯底的、所述襯底臺的或所述襯底和所述襯底臺 兩者的被認(rèn)為存在形成干燥區(qū)域風(fēng)險的區(qū)域結(jié)合的第二電極之間提供電 壓差。
12.如權(quán)利要求9或10所述的設(shè)備,其中所述第二電極位于所述襯 底臺的所述表面上或所述表面處,并涂敷有電絕緣材料的涂敷層。
13.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述浸沒液體是電傳導(dǎo)的。
14.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述電壓控制器構(gòu)造成在所述第 一和第二電極之間提供交流電壓。
15.一種器件制造方法,包括:
將襯底支撐在襯底臺上;
應(yīng)用投影系統(tǒng)將圖案化的輻射束投影到所述襯底上;
應(yīng)用浸沒系統(tǒng)將浸沒液體供給到所述投影系統(tǒng)和所述襯底或襯底臺 之間的空隙;
通過在電連接到將被控制的浸沒液體的第一電極和與至少一個表面 結(jié)合并與將被控制的浸沒液體電絕緣的第二電極之間施加受控制的電壓, 控制位于至少一個表面上的浸沒液體,所述表面選自下面的表面:投影系 統(tǒng)的表面、襯底臺的表面和浸沒系統(tǒng)的表面。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于ASML荷蘭有限公司,未經(jīng)ASML荷蘭有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810179765.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





