[發明專利]用于重疊的磁共振斷層成像和正電子發射斷層成像的裝置無效
| 申請號: | 200810178289.0 | 申請日: | 2008-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN101449975A | 公開(公告)日: | 2009-06-10 |
| 發明(設計)人: | 沃爾夫岡·倫茲;斯蒂芬·斯托克 | 申請(專利權)人: | 西門子公司 |
| 主分類號: | A61B5/055 | 分類號: | A61B5/055;A61B6/03;A61B6/06 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 謝 強 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 重疊 磁共振 斷層 成像 正電子 發射 裝置 | ||
1.一種用于重疊的磁共振斷層成像和正電子發射斷層成像的裝置,具有梯 度線圈和正電子發射斷層造影單元,其中該正電子發射斷層造影單元被設置在 該梯度線圈內部,并且具有屏蔽高頻輻射的第一屏蔽件,該第一屏蔽件部分地 環繞該正電子發射斷層造影單元,并且在該梯度線圈上設置屏蔽高頻輻射的第 二屏蔽件,其特征在于,所述第一屏蔽件與第二屏蔽件連接為至少部分封閉的 屏蔽件。
2.根據權利要求1所述的裝置,其中,所述第一屏蔽件和第二屏蔽件通過 連接部件直接電氣耦合。
3.根據權利要求2所述的裝置,其中,所述第二屏蔽件和所述連接部件被 整體地實施并且可以經過連接點與所述第一屏蔽件相連。
4.根據權利要求1所述的裝置,其中,所述第一屏蔽件和第二屏蔽件通過 電容性的元件耦合。
5.根據權利要求1所述的裝置,其中,在所述梯度線圈和所述正電子發射 斷層造影單元之間設置密封單元,該密封單元被構造為用于連接所述第一屏蔽 件和第二屏蔽件。
6.根據權利要求5所述的裝置,其中,所述密封單元被實施為可排空的墊 子,其中,所述墊子的表面包括如下構成的金屬層:通過該金屬層可以連接所 述第一屏蔽件和第二屏蔽件。
7.根據權利要求6所述的裝置,其中,所述墊子包括具有吸收高頻輻射的 特性的材料。
8.根據權利要求1至6中任一項所述的裝置,其中,所述正電子發射斷層 造影單元包括支承管和PET探測器,其中,該支承管包括碳纖維加強的塑料。
9.根據權利要求1至6中任一項所述的裝置,其中,所述正電子發射斷層 造影單元包括支承管和PET探測器,其中該支承管包括灌注材料,該灌注材料 包含具有吸收高頻輻射的特性的材料。
10.根據權利要求1至6中任一項所述的裝置,其中,所述屏蔽件被實施 為多層。
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