[發(fā)明專利]具有修補層金屬墊的測試載板制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810176064.1 | 申請日: | 2008-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN101738514A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 趙本善 | 申請(專利權)人: | 京元電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R3/00 | 分類號: | G01R3/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 梁愛榮 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 修補 金屬 測試 制造 方法 | ||
1.一種具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在于,包括以 下步驟:
(A)提供一測試載板,該測試載板預先布設有一電路布局,該電路布 局包括有多個測試接點其為顯露于該測試載板的上表面上;
(B)形成一種晶層于該測試載板的上表面并覆蓋住該電路布局的該多 個測試接點;
(C)形成一光阻層于該種晶層上;
(D)移除該光阻層一部分以形成多個開口,其中,該多個開口分別對 應于該測試載板的該多個測試接點以顯露出該多個測試接點;
(E)電鍍一電鍍層于該多個開口內,該電鍍層至少包括一修補層,該修 補層摻雜有多個納米貯囊,每一納米貯囊于其內部容設有一充填劑,該多 個納米貯囊內的充填劑分別是抑制劑、抗化劑、抗腐蝕劑或其組合;
(F)移除該光阻層;以及
(G)移除該種晶層。
2.如權利要求1所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(E)中的該多個納米貯囊的囊體分別是混氧化物、β-環(huán)糊精抗化 劑復合物、空纖聚丙烯、導電聚苯胺、親疏水雙性嵌段共聚合物、聚環(huán)氧 乙烷、聚異丙基丙烯酰胺、聚己內酯多元醇或其組合。
3.如權利要求1所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(E)包括以下步驟:
(E1)電鍍一第一金屬層于該多個開口內;
(E2)電鍍一修補層于該多個開口內并覆蓋于該第一金屬層上,該修補 層摻雜有多個納米貯囊;以及
(E3)電鍍一第二金屬層于該多個開口內并覆蓋于該修補層上。
4.如權利要求3所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(E1)的該第一金屬層為一鍍鎳層。
5.如權利要求3所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(E2)的該修補層為一鍍鎳層,并摻雜有該多個納米貯囊。
6.如權利要求3所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(E3)的該第二金屬層為一鍍鎳層。
7.如權利要求1所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(B)中的該種晶層的形成方法為濺鍍、蒸鍍、電鍍、無電電鍍或 其組合。
8.如權利要求1所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(C)中形成該光阻層的方法為印刷、滾輪涂布、噴灑涂布、簾幕 式涂布、旋轉涂布或其組合。
9.如權利要求1所述具有修補層金屬墊的測試載板制造方法,其特征在 于,該步驟(D)中形成該多個開口的方法是利用曝光顯影方式。
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