[發(fā)明專利]液晶顯示設(shè)備及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810169980.2 | 申請日: | 2008-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN101414086A | 公開(公告)日: | 2009-04-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 權(quán)章云;李樹雄 | 申請(專利權(quán))人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 黃綸偉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示 設(shè)備 及其 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示設(shè)備,該液晶顯示設(shè)備包括:
基板上的選通線,該基板包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域;
與所述選通線交叉以在所述顯示區(qū)域中限定像素區(qū)域的奇數(shù)數(shù)據(jù)線和偶數(shù)數(shù)據(jù)線;
連接到所述選通線并連接到所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線和所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線中的一方的薄膜晶體管;
位于所述像素區(qū)域中并連接到所述薄膜晶體管的像素電極;
分別電連接到所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線和所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線的第一數(shù)據(jù)連接線和第二數(shù)據(jù)連接線,并且在所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線之間形成有柵絕緣層;和
分別位于所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線的一端的第一數(shù)據(jù)焊盤電極和第二數(shù)據(jù)焊盤電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線相互交叉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,該設(shè)備還包括將所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線與所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線和所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線分別連接的第一橋狀圖案和第二橋狀圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其中所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的一方位于與所述選通線相同的層,并且所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的另一方位于與所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線和所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線相同的層,并且其中所述柵絕緣層位于所述選通線上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備,該設(shè)備還包括位于所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線、所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線、以及所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的另一方之上的鈍化層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中所述第一橋狀圖案、所述第二橋狀圖案、以及所述像素電極位于所述鈍化層上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其中所述鈍化層包括接觸所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線和所述第一橋狀圖案的第一接觸孔、接觸所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第一橋狀圖案的第二接觸孔、接觸所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線和所述第二橋狀圖案的第三接觸孔、以及接觸所述第二數(shù)據(jù)連接線和所述第二橋狀圖案的第四接觸孔,并且其中所述柵絕緣層包括與所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的一方相對應(yīng)的所述第三接觸孔和所述第四接觸孔中的一方。
8.一種液晶顯示設(shè)備的制造方法,該方法包括:
在基板上形成選通線、第一數(shù)據(jù)連接線、以及所述第一數(shù)據(jù)連接線的端部處的第一數(shù)據(jù)焊盤電極;
在所述選通線、所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第一數(shù)據(jù)焊盤電極上形成柵絕緣層;
形成奇數(shù)數(shù)據(jù)線和偶數(shù)數(shù)據(jù)線、第二數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線的端部處的第二數(shù)據(jù)焊盤電極,其中在所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線之間形成有柵絕緣層,并且其中所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的一方電連接到所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線,并且所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的另一方電連接到所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線;
形成連接到所述選通線并連接到所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線和所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線中的一方的薄膜晶體管;
在所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線、所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線、所述第二數(shù)據(jù)連接線、所述第二數(shù)據(jù)焊盤電極上形成鈍化層;和
形成位于所述鈍化層上并連接到所述薄膜晶體管的像素電極。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線相互交叉。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,該方法還包括在形成所述像素電極的相同工序中形成第一橋狀圖案和第二橋狀圖案,其中所述第一橋狀圖案將所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的一方與所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線連接,并且所述第二橋狀圖案將所述第一數(shù)據(jù)連接線和所述第二數(shù)據(jù)連接線中的另一方與所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,該方法還包括形成位于所述鈍化層中并分別露出所述奇數(shù)數(shù)據(jù)線、所述偶數(shù)數(shù)據(jù)線和所述第二數(shù)據(jù)連接線的第一接觸孔、第三接觸孔和第四接觸孔,并且形成位于所述鈍化層和所述柵絕緣層中并露出所述第一數(shù)據(jù)連接線的第二接觸孔。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
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- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





