[發明專利]光刻投射裝置

有效

• 申請號: 200810168966.0
• 申請日: 2003-11-11
• 公開（公告）號: CN101382738A
• 公開（公告）日: 2009-03-11
• 發明（設計）人: J·洛夫;A·T·A·M·德克森;C·A·胡根達姆;A·科勒斯伊辰科;E·R·魯普斯特拉;T·M·默德曼;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞馬;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里夫克;H·范桑坦
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王波波

本發明是本申請人于2003年11月11日申請的、申請號為200310120957.1、發明名稱為“光刻裝置和器件制造方法”的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種光刻投射裝置，包括：用于提供輻射投射光束的輻射系統；用于支撐構圖部件的支撐結構，所述構圖部件用于根據理想的圖案對投射光束進行構圖；用于保持基底的基底臺；用于將帶圖案的光束投射到基底的靶部上的投射系統；以及用于至少部分地將所述投射系統末端元件和所述基底之間的間隙填充液體的液體供給系統。

背景技術

這里使用的術語“構圖部件”應廣義地解釋為能夠給入射的輻射光束賦予帶圖案的截面的部件，其中所述圖案與要在基底的靶部上形成的圖案一致；本文中也使用術語“光閥“。一般地，所述圖案與在靶部中形成的器件的特殊功能層相應，如集成電路或者其它器件(如下文)。這種構圖部件的示例包括：

掩膜。掩膜的概念在光刻中是公知的。它包括如二進制型、交替相移型、和衰減相移型、以及各種混合掩膜類型。這種掩膜在輻射光束中的布置使入射到掩膜上的輻射能夠根據掩膜上的圖案而選擇性的被透射(在使用掩膜的情況下)或者被反射(在反射掩膜的情況下)。在使用掩膜的情況下，支撐結構一般是一個掩膜臺，它能夠保證掩膜被保持在入射光束中的理想位置，并且如果需要該臺會相對光束移動。

控制反射鏡陣列。這種設備的一個例子是具有一粘彈性控制層和一反射表面的矩陣可尋址表面。這種裝置的理論基礎是(例如)反射表面的尋址區域將入射光反射為衍射光，而非可尋址區域將入射光反射為非衍射光。用一個適當的濾光器，從反射的光束中過濾所述非衍射光，只保留衍射光；按照這種方式，光束根據矩陣可尋址表面的尋址圖案而產生圖案。程控反射鏡陣列的另一實施例利用微小反射鏡的矩陣排列，通過使用適當的局部電場，或者通過使用壓電致動器裝置，使得每個反射鏡能夠獨立地關于一軸傾斜。再者，反射鏡是矩陣可尋址的，由此已定址的反射鏡以不同的方向將入射的輻射光束反射到無地址的反射鏡上；按照這種方式，根據矩陣可尋址反射鏡的定址圖案對反射光束進行構圖。可以用適當的電子裝置進行該所需的矩陣尋址。在上述兩種情況中，構圖部件可包括一個或者多個程控反射鏡陣列。反射鏡陣列的更多信息可以從例如美國專利US5,296,891、美國專利US5,523,193、PCT專利申請WO98/38597和WO98/33096中獲得，這些文獻在這里引入作為參照。在程控反射鏡陣列的情況中，所述支撐結構可以是框架或者工作臺，例如所述結構根據需要可以是固定的或者是可移動的。

程控LCD陣列，例如由美國專利US5,229,872給出的這種結構，它在這里引入作為參照。如上所述，在這種情況下支撐結構可以是框架或者工作臺，例如所述結構根據需要可以是固定的或者是可移動的。

為簡單起見，本文的其余部分在一定的情況下具體以掩模和掩模臺為例；可是，在這樣的例子中所討論的一般原理應適用于上述更寬范圍的構圖部件。

光刻投影裝置可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，構圖部件可產生對應于IC每一層的電路圖案，該圖案可以成像在已涂敷輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(硅片)的靶部上(例如包括一個或者多個電路小片(die))。一般的，單一的晶片將包含相鄰靶部的整個網格，該相鄰靶部由投影系統逐個相繼輻射。在目前采用掩模臺上的掩模進行構圖的裝置中，有兩種不同類型的機器。一類光刻投影裝置是，通過一次曝光靶部上的全部掩模圖案而輻射每一靶部；這種裝置通常稱作晶片分檔器。另一種裝置(通常稱作分步掃描裝置)通過在投射光束下沿給定的參考方向(“掃描”方向)依次掃描掩模圖案、并同時沿與該方向平行或者反平行的方向同步掃描基底臺來輻射每一靶部；因為一般來說，投影系統有一個放大系數M(通常<1)，因此對基底臺的掃描速度V是對掩模臺掃描速度的M倍。如這里描述的關于光刻設備的更多信息可以從例如美國專利US6,046,729中獲得，該文獻這里作為參考引入。