[發明專利]電子束曝光系統

有效

• 申請號: 200810166459.3
• 申請日: 2003-10-30
• 公開（公告）號: CN101414124A
• 公開（公告）日: 2009-04-22
• 發明（設計）人: 馬爾科·揚－哈科·威蘭;波特·揚·卡姆弗彼科;亞歷山大·哈德瑞克·文森特·范費恩;彼得·克瑞特
• 申請（專利權）人: 邁普爾平版印刷IP有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01J37/317
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 趙 科

1.一種用于將圖案轉移到目標表面上的平版印刷系統，包括：

用于產生電子束的電子束發生器；

用于將所述電子束分離為多個電子小射束的射束分離器；

用于調制所述多個小射束的強度的調制陣列；

用于偏轉電子小射束以掃描所述目標表面的靜電掃描偏轉器的陣 列，其中所述靜電掃描偏轉器的陣列包括掃描偏轉電極，其中每個掃 描偏轉電極被設置為以相同的方向偏轉一組電子小射束；

包括靜電透鏡陣列的用于聚焦所述小射束的聚焦電子光學系統； 和

用于固定目標的目標固定器，其中所述目標具有所述圖案要在所 述聚焦電子光學系統的焦平面中被轉移到的表面。

2.如權利要求1的平版印刷系統，其中所述偏轉電極為片的形式， 并且所述偏轉電極布置在獨立小射束交叉平面的外部。

3.如權利要求2的平版印刷系統，其中交變電壓位于連續的片上。

4.如權利要求2的平版印刷系統，其中所述片被淀積在板上。

5.如權利要求4的平版印刷系統，其中所述偏轉電極位于小射束 停止陣列的目標曝光表面側的輔助孔陣列上，以形成掃描偏轉陣列。

6.如權利要求1的平版印刷系統，其中所述偏轉電極包括片。

7.如權利要求6的平版印刷系統，其中所述偏轉電極靠近傳輸的 小射束淀積。

8.如權利要求7的平版印刷系統，其中所述偏轉電極被淀積在目 標靜電透鏡陣列的一個板的目標曝光表面側部上，使得主要在物鏡的 前焦平面中產生偏轉。

9.如權利要求1的平版印刷系統，其中所述掃描偏轉電極包括第 一組片和第二組片，其中第一組片被設置為在第一方向上掃描，第二 組片被設置為在第二方向上掃描，所述第一方向與所述第二方向相反。

10.一種用于將圖案轉移到目標表面上的方法，包括：

產生多個電子小射束；

調制所述多個小射束的強度；

提供靜電掃描偏轉器的陣列，其中所述靜電掃描偏轉器的陣列包 括片形式的掃描電極；

在連續的片上為片提供交變電壓；

利用所述靜電掃描偏轉器的陣列來偏轉所述電子小射束，以在偏 轉掃描方向上掃描所述目標表面；

機械地在與所述偏轉掃描方向不同的方向上掃描所述目標表面； 以及

將所述多個小射束聚焦到所述圖案要被轉移到的目標表面上。