[發明專利]一種大功率可變光學衰減片的制作方法有效
| 申請號： | 200810154429.0 | 申請日： | 2008-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN101446667A | 公開（公告）日： | 2009-06-03 |
| 發明（設計）人： | 王定理;祝業盛;馬衛東;唐瓊;廖志霞 | 申請（專利權）人： | 武漢光迅科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B6/26 | 分類號： | G02B6/26 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 | 代理人： | 江鎮華 |
| 地址： | 430074湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 大功率 可變 光學 衰減 制作方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種大功率可變光學衰減片的制作方法，它通過在玻璃基片上制作沿著基片長度方向透光面積逐漸變化的金屬薄膜透光孔，實現沿基片長度方向光功率衰減量的漸變，其特征在于，所述的金屬薄膜透光孔是采用金屬剝離的方法制作的，包括下列步驟：
(1)利用分布有透光小孔的掩膜板，在玻璃基片表面制作倒臺型光刻膠圖形，所述掩膜板的透光面積沿著基片長度方向逐漸變化；
(2)在帶有倒臺型光刻膠的玻璃基片表面鍍制金屬薄膜；
(3)將鍍制好金屬薄膜的玻璃基片浸泡在去膠液內，剝離掉倒臺型光刻膠及其表面附著的金屬薄膜。
2.如權利要求1所述的大功率可變光學衰減片的制作方法，其特征在于：所述玻璃基片采用楔角型玻璃基片，玻璃基片的一面或兩面鍍有增透薄膜。
3.如權利要求1所述的大功率可變光學衰減片的制作方法，其特征在于：所述的金屬薄膜為鈦、鎳、鋁、鉻、金中的任何一種或幾種金屬材料或為上述金屬的金屬合金材料。
4.如權利要求1所述的大功率可變光學衰減片的制作方法，其特征在于：其中的步驟(2)采用濺射或蒸發的方法鍍制金屬薄膜。
5.如權利要求1所述的大功率可變光學衰減片的制作方法，其特征在于：所述金屬薄膜的衰減量大于60dB。
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