[發明專利]成像設備有效
| 申請號： | 200810149387.1 | 申請日： | 2008-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN101403871A | 公開（公告）日： | 2009-04-08 |
| 發明（設計）人： | 鯉江浩司 | 申請（專利權）人： | 兄弟工業株式會社 |
| 主分類號： | G03G15/00 | 分類號： | G03G15/00;G03G15/01 |
| 代理公司： | 北京泛誠知識產權代理有限公司 | 代理人： | 楊本良;文 琦 |
| 地址： | 日本愛知*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 成像 設備 | ||
1.一種成像設備，包括：
載體；
在載體上形成圖像的形成單元；
清潔所述載體的清潔單元；
檢測形成在所述載體上的校正圖形的檢測單元；以及
執行校正過程的控制單元，該校正過程包括由所述清潔單元清潔 在所述載體中的圖形形成區、在所述清潔單元完成清潔之后，由所述 形成單元在所述圖形形成區中形成校正圖形、以及根據由所述檢測單 元檢測的所述校正圖形的檢測結果，校正所述形成單元的圖像形成特 征，
其中由所述清潔單元對所述載體的清潔工作量是可改變的；
其中，在校正處理期間，所述控制單元能夠進行用于校正由所述 形成單元形成的圖像的位置偏移的位置偏移校正，和用于校正由所述 形成單元形成的圖像的密度的密度校正，并且
其中，所述清潔單元將由所述控制單元進行密度校正時的清潔工 作量設置成大于進行位置偏移校正時的清潔工作量。
2.根據權利要求1所述的成像設備，
其中，當所述控制單元進行位置偏移校正，以校正由所述形成單 元所形成的圖像的位置偏移時，通過將來自所述載體的反射光的量與 用于位置檢測的閾值進行比較，所述檢測單元檢測校正圖形的位置， 并且
其中所述控制單元根據來自所述載體的表面的反射光的量而改變 用于位置檢測的閾值。
3.根據權利要求1所述的成像設備，
其中，所述清潔單元采取清潔所述載體的可操作的狀態和不清潔 所述載體的不可操作的狀態。
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