[發明專利]相位差光學元件的制造方法無效
| 申請號： | 200810149122.1 | 申請日： | 2004-07-20 |
| 公開（公告）號： | CN101398502A | 公開（公告）日： | 2009-04-01 |
| 發明（設計）人： | 鹿島啟二;黑田剛志 | 申請（專利權）人： | 大日本印刷株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 劉 建 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 相位差 光學 元件 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種相位差光學元件的制造方法，其特征是，
所述相位差光學元件為在透明基材上形成有相位差層而形成的相位差光學元件，所述相位差層的2個主要的表面當中的至少一方的表面上，在100μm的間隔內存在有液晶分子的指向不一致的部分，
所述制造方法包括：
在所述透明基材上形成取向膜的取向膜形成工序；
在所述取向膜上，將含有形成膽甾型液晶構造的具有膽甾型結構的液晶材料的相位差層形成用涂刷液，在不對所述取向膜實施摩擦處理的狀態下進行涂布的涂布工序；
對通過所述涂布工序形成于取向膜上的相位差層實施取向處理的取向處理工序；
對通過所述取向處理取向了的相位差層實施固化處理而使之固化，將在所述相位差層內以液晶相的狀態體現的膽甾型液晶構造進行固定化的固定化工序。
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