[發(fā)明專利]一種具有酒精氣體敏感效應(yīng)的碳薄膜/硅異質(zhì)結(jié)材料及其制備方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810138337.3
• 申請(qǐng)日: 2008-07-11
• 公開（公告）號(hào): CN101334413A
• 公開（公告）日: 2008-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 薛慶忠;李群;嚴(yán)克友;郝蘭眾;夏丹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國石油大學(xué)（華東）
• 主分類號(hào): G01N33/98
• 分類號(hào): G01N33/98;G01N27/407
• 代理公司: 青島高曉專利事務(wù)所
• 代理人: 楊大興

1.一種具有酒精氣體敏感效應(yīng)的碳薄膜/硅異質(zhì)結(jié)材料，其特征是：在一塊0.5～1.0毫米厚的拋光單晶硅基片上，濺射一層類金剛石碳薄膜，薄膜的厚度為20～200納米。

2.依據(jù)權(quán)利要求1所述的具有酒精氣體敏感效應(yīng)的碳薄膜/硅異質(zhì)結(jié)材料，其特征是：所說的類金剛石碳薄膜中可以含有質(zhì)量含量為0～10％的鐵，制成摻雜碳薄膜/硅異質(zhì)結(jié)材料。

3.一種具有酒精氣體敏感效應(yīng)的碳薄膜/硅異質(zhì)結(jié)材料的制備方法，包括以下步驟：

(1)取純度為99.9％的石墨粉，或者取純度均為99.9％的石墨粉和鐵粉，通過冷壓的方法，制成含鐵0～10％(質(zhì)量分?jǐn)?shù))的石墨復(fù)合靶；

(2)先用摩爾濃度為20％的氫氟酸溶液浸泡實(shí)驗(yàn)所需的厚度為0.5～1.0毫米的硅基片5分鐘，然后依次用去離子水、乙醇、丙酮、乙醇在超聲波中各清洗硅基片5分鐘；

(3)將清洗好的硅基片放入濺射室，開啟抽真空系統(tǒng)進(jìn)行抽真空；

(4)當(dāng)背景真空為2×10^-4帕?xí)r，通入氬氣，并維持2帕的壓強(qiáng)，待氣壓穩(wěn)定后，開始用石墨靶濺射，或者用摻鐵的石墨復(fù)合靶濺射，濺射功率為50瓦，濺射直流電壓為0.50千伏，濺射時(shí)間為5～50分鐘，濺射溫度為室溫至400℃；

(5)濺射完畢后，停止通氬氣，抽真空系統(tǒng)繼續(xù)工作，使樣品在真空度較高的環(huán)境下自然冷卻，待樣品溫度降至室溫，取出樣品即可。