[發(fā)明專利]介質(zhì)傳送裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810133623.0 | 申請(qǐng)日： | 2004-03-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101327694A | 公開（公告）日： | 2008-12-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 石井隆幸;島田仁學(xué) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | B41J11/00 | 分類號(hào)： | B41J11/00;B41J11/06;B41J13/24 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 劉曉峰 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 介質(zhì) 傳送 裝置 | ||
1.一種介質(zhì)傳送裝置，被構(gòu)造成在抽吸介質(zhì)的同時(shí)在傳送方向上傳送所述介質(zhì)，所述介質(zhì)傳送裝置包括：
在所述傳送方向上延伸的表面，在所述表面之上傳送所述介質(zhì)；
抽吸室，所述抽吸室從所述表面的一個(gè)端部附近的位置連續(xù)延伸到所述表面的另一端部附近的位置；
減壓室，所述減壓室形成在介質(zhì)傳送裝置內(nèi)部；
多個(gè)抽吸孔，所述抽吸孔形成在所述抽吸室的底部表面并將所述抽吸室與減壓室連通；以及
抽吸裝置，所述抽吸裝置被構(gòu)造成從抽吸室將空氣抽吸入所述減壓室中，
其中在垂直于傳送方向的方向上所述抽吸孔的橫截面小于所述抽吸室的橫截面。
2.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)傳送裝置，還包括：
一對(duì)進(jìn)給輥，所述一對(duì)進(jìn)給輥在所述傳送方向上設(shè)置在所述表面的上游側(cè)；和
一對(duì)排出輥，所述一對(duì)排出輥在所述傳送方向上設(shè)置在所述表面的下游側(cè)；以及
其中，相對(duì)于所述進(jìn)給輥的壓送部分和所述排出輥的壓送部分之間的中心，所述抽吸室在傳送方向上向所述下游側(cè)偏移，其中所述抽吸室形成在所述表面上。
3.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸室在垂直于所述傳送方向的方向上平行地布置，其中所述抽吸室是多個(gè)抽吸室。
4.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸孔沿所述傳送方向布置。
5.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)傳送裝置，
其中所述減壓室設(shè)置在所述表面之下，而且
其中所述抽吸裝置設(shè)置在所述減壓室之下。
6.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸室形成為自傳送上游側(cè)朝向傳送下游側(cè)逐漸變深。
7.如權(quán)利要求6所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸室形成為在所述傳送方向上從上游側(cè)朝著下游側(cè)逐漸變深。
8.如權(quán)利要求6所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸室的深度自所述抽吸室的上游端至預(yù)定的距離逐漸變深，并且所述抽吸室的深度自所述預(yù)定距離直至所述抽吸室的下游端為常數(shù)。
9.如權(quán)利要求6所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸室的自其上游端至預(yù)定距離的部分形成為第一深度，而且所述抽吸室的自所述預(yù)定距離至所述抽吸室的下游端的另一部分形成為第二深度，所述第二深度大于第一深度。
10.一種包括如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)傳送裝置的記錄裝置。
11.一種介質(zhì)傳送裝置，被構(gòu)造成在抽吸介質(zhì)的同時(shí)在傳送方向上傳送所述介質(zhì)，所述介質(zhì)傳送裝置包括：
在所述傳送方向上延伸的表面，在所述表面之上傳送所述介質(zhì)；
抽吸室，所述抽吸室從所述表面的一個(gè)端部附近的位置連續(xù)延伸到所述表面的另一端部附近的位置；
多個(gè)抽吸孔，所述抽吸孔形成在所述抽吸室的底部表面并將所述抽吸室與減壓室連通；以及
抽吸裝置，所述抽吸裝置被構(gòu)造成將空氣抽吸入所述減壓室中，
其中當(dāng)從所述表面之上觀察時(shí)，每個(gè)所述抽吸孔的直徑在垂直于傳送方向的方向上小于所述抽吸室的底面的寬度。
12.如權(quán)利要求11所述的介質(zhì)傳送裝置，還包括：
一對(duì)進(jìn)給輥，所述一對(duì)進(jìn)給輥在所述傳送方向上設(shè)置在所述表面的上游側(cè)；以及
一對(duì)排出輥，所述一對(duì)排出輥在所述傳送方向上設(shè)置在所述表面的下游側(cè)；以及
其中，相對(duì)于所述進(jìn)給輥的壓送部分和所述排出輥的壓送部分之間的中心，形成在所述表面上的所述抽吸室在傳送方向上向所述下游側(cè)偏移。
13.如權(quán)利要求11所述的介質(zhì)傳送裝置，其中多個(gè)所述抽吸室在垂直于所述傳送方向的方向上平行地布置。
14.如權(quán)利要求11所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸孔沿所述傳送方向布置。
15.如權(quán)利要求11所述的介質(zhì)傳送裝置，
其中所述抽吸孔形成在所述抽吸室的底部表面上；
其中所述減壓室設(shè)置在所述表面之下，而且
其中所述抽吸裝置設(shè)置在所述減壓室之下。
16.如權(quán)利要求11所述的介質(zhì)傳送裝置，其中所述抽吸室形成為使得所述抽吸室在所述傳送方向上在上游側(cè)的深度變得大于所述抽吸室在下游側(cè)的深度。
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