[發明專利]防護薄膜框架

無效

• 申請號: 200810129296.1
• 申請日: 2008-06-30
• 公開（公告）號: CN101349874A
• 公開（公告）日: 2009-01-21
• 發明（設計）人: 白崎享
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 陶鳳波

技術領域

本發明系關于一種光刻用防護薄膜框架，其構成光刻用防護薄膜組件，特別是構成在制造LSI、超LSI等半導體裝置時，用來當作防塵器使用的光刻用防護薄膜組件，而且其特別是使用在以高解析度為必要的曝光中，并使用在200nm以下的紫外線曝光中。

背景技術

以往在LSI、超LSI等半導體裝置或是液晶顯示板等產品的制造中，系用光照射半導體晶圓或液晶用原板以制作形成圖案，惟若此時所使用的曝光原版有灰塵附著的話，由于該灰塵會吸收光，使光反射，故除了會使轉印的圖案變形、使邊緣變粗糙以外，還會損壞尺寸、品質、外觀等，導致半導體裝置或液晶顯示板等產品的性能惡化或降低制造成品率。

因此，該等作業通常系在無塵室內進行，惟即使在無塵室內欲經常保持曝光原版清潔仍相當困難，故吾人遂采用在曝光原版表面貼附曝光用光線透過率良好的防護薄膜組件作為防塵構件使用的方法。

此時，灰塵并非直接附著于曝光原版的表面上，而系附著于防護薄膜上，故只要在光刻時將焦點對準曝光原版的圖案上，防護薄膜組件上的灰塵就不會對轉印造成影響。

防護薄膜組件，系用透光性良好的硝化纖維素、醋酸纖維素等物質構成透明防護薄膜，并以鋁、不銹鋼、聚乙烯等物質構成防護薄膜框架，然后在防護薄膜框架的上部涂布防護薄膜的良溶媒，再將防護薄膜風干黏著于防護薄膜框架的上部所制作而成(參照專利文獻1)，或者是用丙烯酸樹脂或環氧樹脂等的黏著劑黏著(參照專利文獻2、專利文獻3、專利文獻4)，并在防護薄膜框架的下部設置由聚丁烯樹脂、聚醋酸乙烯酯樹脂、丙烯酸樹脂、硅氧樹脂等物質所構成的黏著層以及保護該黏著層的脫模層(隔離部)。

近年來，光刻的解析度逐漸提高，且為了實現該解析度，逐漸使用短波長光作為光源。具體而言系向紫外光的[g線(436nm)、I線(365nm)、KrF準分子雷射(248nm)]移動，近年開始使用ArF準分子雷射光(193nm)。

[專利文獻1]日本特開昭58-219023號公報

[專利文獻2]美國專利第4861402號說明書

[專利文獻3]日本特公昭63-27707號公報

[專利文獻4]日本特開平7-168345號公報

發明內容

發明所欲解決的問題

半導體用曝光裝置，系利用短波長光將光罩上所描繪的圖案轉印在硅晶圓上，惟若光罩以及硅晶圓上有凹凸不平的地方的話曝光時會發生焦點偏差，轉印在晶圓上的圖案會發生問題。隨著技術微細化進展，對光罩以及硅晶圓所要求的平坦性，也越來越嚴格。例如，光罩所要求的平坦度，從圖案面要求平坦度2μm，逐漸變嚴格，65nm技術節點以后，要求達到0.5μm、0.25μm。

防護薄膜組件，在光罩完成后作為圖案的防塵構件而黏貼在光罩上，惟當防護薄膜組件黏貼于光罩上后，光罩的平坦度會改變。若光罩的平坦度變差，則如上所述的那樣，可能會產生焦點偏差等問題。又平坦度若變化，則光罩上所描繪的圖案形狀也會變化，故也會使光罩重迭精密度產生問題。

相反的，黏貼防護薄膜組件也可能會使光罩的平坦性變好。此時，不會發生焦點偏差的問題，但是因為圖案形狀產生變化，故仍然會使光罩的迭合精密度產生問題。

如是，吾人期望最前端的光罩即使黏貼了防護薄膜組件，光罩平坦度也不會發生變化。然而，一般而言，黏貼了防護薄膜組件，光罩平坦度多會產生變化。黏貼防護薄膜組件造成光罩平坦度變化的原因有幾個，目前已經知道最主要的一個原因是受到防護薄膜框架的平坦度的影響。

防護薄膜框架一般系鋁材質。防護薄膜的尺寸，一般而言由曝光裝置的規格決定，寬度約150mm左右，長度約110～130mm左右，厚度約2mm左右，高度約3.5～6mm左右，中央部形成鏤空形狀。一般而言，多從鋁合金板切出防護薄膜框架的形狀，擠制成框架形狀，制得框架。

一般而言，防護薄膜組件框架的平坦度約為20～80μm左右，惟該等平坦度在將用于大型框架的防護薄膜組件黏貼到光罩上時，框架的形狀會轉印到光罩上，而使光罩變形。防護薄膜組件，黏貼時約以196.1～392.2N(20～40kgf)大小的力量壓黏于光罩上，惟光罩表面的平坦度在數μm以下，比框架平坦，故在壓黏時框架會變形而與光罩表面的平坦度相符合。然而，壓黏完成后，框架會回復到原來的樣子，且由于框架黏接著光罩表面，故此時光罩也會變形。

因此，遂有檢討意見認為可藉由提高防護薄膜框架的平坦度，以減少框架變形，從而減少防護薄膜組件黏貼時光罩的變形，為在鋁合金制防護薄膜框架的情況下，要制作出平坦度高的框架是相當困難的。