[發明專利]拋光襯墊、制造拋光襯墊的方法以及拋光系統和拋光方法

無效

• 申請號: 200810129234.0
• 申請日: 2003-07-23
• 公開（公告）號: CN101310929A
• 公開（公告）日: 2008-11-26
• 發明（設計）人: B·A·斯威德克;M·比蘭恩
• 申請（專利權）人: 應用材料有限公司
• 主分類號: B24D13/14
• 分類號: B24D13/14;B24B29/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 趙蓉民

1.一種拋光襯墊，包括：

一拋光層，其具有拋光面和底面；

第一組溝槽，其形成于所述拋光層的前表面；一凹槽，其形成于所述拋光層的底面上，且其中在所述拋光面上對應于所述底面中凹槽的區域沒有溝槽并且是不透明的；以及

具有開口的背襯層，其中所述開口與所述凹槽相對齊。

2.如權利要求1所述的拋光襯墊，其中在所述拋光面上對應于所述底面中凹槽的區域大體上是平的。

3.一種拋光系統，包括：

一托架，用于固定襯底；

一拋光襯墊，其被支撐于機床工作臺上，該拋光襯墊包括一拋光層和背襯層，該拋光層具有一用于拋光的前表面和一底面、形成于所述拋光層的前表面上的第一組溝槽、及形成于所述拋光層的底面上的凹槽，且其中在所述拋光面上對應于所述底面中凹槽的區域沒有溝槽并且是不透明的，所述背襯層具有開口，其中所述開口與所述凹槽相對齊；及

一渦流監控系統，其至少具有線圈和磁芯的其中之一，且所述線圈和磁芯的其中之一至少部分地延伸到所述拋光層的底面中的凹槽內，以監控由所述托架固定的所述襯底上的金屬層。

4.一種拋光方法，包括：

使襯底與一拋光襯墊的拋光層的前表面相接觸，所述拋光層具有形成于該拋光層的前表面的第一組溝槽、及形成于該拋光層的底面中的一凹槽，而且其中所述拋光面上對應于所述底面中凹槽的區域沒有溝槽并且是不透明的，并且所述拋光襯墊進一步包括具有開口的背襯層，其中所述開口與所述凹槽相對齊；

將拋光液提供到所述拋光層的前表面；及

使得所述襯底和所述前表面之間產生相對運動。