[發明專利]氨基二乙酸插層結構選擇性紅外吸收材料及其制備方法

無效

• 申請號: 200810114882.9
• 申請日: 2008-06-13
• 公開（公告）號: CN101289220A
• 公開（公告）日: 2008-10-22
• 發明（設計）人: 李殿卿;王麗靜;徐向宇;林彥軍
• 申請（專利權）人: 北京化工大學
• 主分類號: C01G1/00
• 分類號: C01G1/00
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司
• 代理人: 何俊玲

1.一種氨基二乙酸插層結構選擇性紅外吸收材料，簡寫為：IDAs-LDHs，其為超分子結構，晶體結構為類水滑石材料的晶體結構，其化學式為：

(M²⁺)_1-x(M³⁺)_x(OH)₂(A^2-)_a(B^n-)_b·mH₂O

其中M²⁺是Zn²⁺、Mg²⁺、Ni²⁺、Cu²⁺、Fe²⁺、Co²⁺、Ca²⁺、Mn²⁺中的任何一種或兩種。M³⁺是Al³⁺、Fe³⁺、Cr³⁺、V³⁺、Co³⁺、Ga³⁺、Ti³⁺中的任何一種；

A代表氨基二乙酸類化合物，簡寫為IDAs，A是亞氨基二乙酸(IDA)、N-(2-乙基)亞氨基二乙酸(HIDA)、甲基亞氨二乙酸(MIDA)中的任何一種；

B^n-為荷電量為n的無機陰離子，IDAs-LDHs化學式中B^n-可以不存在或為CO₃^2-、NO₃^-、Cl^-、Br^-、I^-、OH^-、H₂PO₄^-中的任何一種、二種或三種；

0.1＜X＜0.8；a、b分別為A^2-和B^n-的數量，2a+n×b＝X；

m為結晶水數量，0.01＜m＜4。

2.根據權利要求1所述的氨基二乙酸插層結構選擇性紅外吸收材料，其特征是所述的M²⁺是Zn²⁺、Mg²⁺、Cu²⁺、Fe²⁺、Ca²⁺、Mn²⁺中的任何一種或兩種，M³⁺是Al³⁺、Co³⁺、Fe³⁺。

3.根據權利要求1所述的氨基二乙酸插層結構選擇性紅外吸收材料，其特征是所述的M²⁺是Zn²⁺和/或Mg²⁺，M³⁺是Al³⁺。