[發明專利]具有編碼器型位置傳感器系統的光刻設備

有效

• 申請號: 200810109166.1
• 申請日: 2008-05-23
• 公開（公告）號: CN101359182A
• 公開（公告）日: 2009-02-04
• 發明（設計）人: 皮特·保羅·斯汀賈爾特;威爾赫爾姆斯·約瑟夫斯·鮑克斯;艾米愛爾·尤澤夫·梅勒妮·尤森;埃瑞克·羅埃勞夫·魯普斯卓;恩格爾伯塔斯·安東尼爾斯·弗朗西斯克斯·范德帕斯克;魯德·安東尼爾斯·卡薩麗娜·瑪麗亞·比倫斯;埃爾伯塔斯·亞得里亞內斯·史密特斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王波波

1.一種光刻設備，所述光刻設備包括：

照射系統，所述照射系統被配置用于調節輻射束；

支撐件，所述支撐件被構造用于保持圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束，以形成圖案化的輻射束；

襯底臺，所述襯底臺被構造用于保持襯底；

投影系統，所述投影系統被配置用于將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部分上；以及

編碼器型傳感器系統，所述編碼器型傳感器系統被配置用于測量襯底臺相對于參考結構的位置，所述編碼器型傳感器系統包括編碼器傳感器頭和編碼器傳感器目標，且所述光刻設備包括用于容納所述編碼器傳感器目標的凹陷。

2.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述凹陷被設置在參考結構中或參考結構上。

3.根據權利要求2所述的光刻設備，其中所述凹陷由參考結構和圍繞結構形成，所述圍繞結構與參考結構的面對編碼器傳感器目標的表面相連，所述圍繞結構至少部分地包圍編碼器傳感器目標的、在襯底臺的運動的主平面中所見的側部。

4.根據權利要求3所述的光刻設備，包括在編碼器傳感器目標和凹陷之間的間隙。

5.根據權利要求4所述的光刻設備，其中在編碼器傳感器目標和參考結構之間的間隙小于1毫米。

6.根據權利要求4所述的光刻設備，其中在編碼器傳感器目標的側部和圍繞結構之間的間隙是1到2毫米的量級。

7.根據權利要求3所述的光刻設備，其中所述參考結構、圍繞結構或參考結構和圍繞結構兩者設置有冷卻通道，所述冷卻通道用于循環溫度穩定化流體。

8.根據權利要求7所述的光刻設備，其中所述流體為液體。

9.根據權利要求3所述的光刻設備，其中所述圍繞結構包括鋁。

10.根據權利要求2所述的光刻設備，其中所述參考結構包括面對編碼器傳感器目標的后側的至少一部分的鋁元件，在所述鋁元件和所述編碼器傳感器目標的后側之間的間隙小于50微米。

11.根據權利要求2所述的光刻設備，還包括透鏡調節器，所述透鏡調節器被配置用于調節投影系統的下游透鏡，所述透鏡調節器被配置用于提供所述凹陷的側部。

12.根據權利要求11所述的光刻設備，其中在透鏡調節器與編碼器傳感器目標的面對透鏡調節器的側部之間的間隙為毫米量級或更小。

13.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述位置位于襯底臺的運動的主平面中。

14.一種光刻設備，所述光刻設備包括：

照射系統，所述照射系統被配置用于調節輻射束；

支撐件，所述支撐件被構造用于保持圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束，以形成圖案化的輻射束；

襯底臺，所述襯底臺被構造用于保持襯底；

投影系統，所述投影系統被配置用于將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部分上；

編碼器型傳感器系統，所述編碼器型傳感器系統被配置用于測量襯底臺相對于參考結構的位置，所述編碼器型傳感器系統包括編碼器傳感器頭和編碼器傳感器目標；以及

氣源，所述氣源被配置用于將經過調節的氣流提供給所述編碼器傳感器目標的表面，所述表面基本平行于襯底臺的運動的主平面。

15.一種光刻設備，所述光刻設備包括：

照射系統，所述照射系統被配置用于調節輻射束；

支撐件，所述支撐件被構造用于保持圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束，以形成圖案化的輻射束；

襯底臺，所述襯底臺被構造用于保持襯底；

投影系統，所述投影系統被配置用于將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部分上；以及

編碼器型傳感器系統，所述編碼器型傳感器系統被配置用于測量襯底臺相對于參考結構的位置，所述編碼器型傳感器系統包括編碼器傳感器頭和編碼器傳感器目標，

其中所述光刻設備被配置用于在閑置的時間周期中使襯底臺沿著所述襯底臺的運動的主平面運動，所述襯底臺的運動用于防止所述編碼器傳感器目標被來自襯底臺的熱量局部加熱。