[發(fā)明專利]配線基板及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810108672.9 | 申請日: | 2008-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN101315917A | 公開(公告)日: | 2008-12-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 金子健太郎 | 申請(專利權)人: | 新光電氣工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H01L23/498 | 分類號: | H01L23/498;H01L21/48;H05K1/11;H05K3/46;H05K3/40 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人: | 顧紅霞;何勝勇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 配線基板 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種配線基板及其制造方法。更具體地說,本發(fā)明 涉及在一側(cè)設置有用于安裝半導體元件等的焊盤并在另一側(cè)設置有 用于連接到另一個安裝基板上的焊盤的配線基板。
背景技術
用于在封裝體上形成半導體元件、其它電子部件等的配線基板 在一側(cè)設置有用于安裝半導體元件、電子部件等的焊盤,并在另一側(cè) 設置有用于連接到另一個安裝基板上的焊盤。外部連接焊盤的表面設 置有表面鍍層,該表面鍍層用于連接到半導體元件等上并結(jié)合到用于 連接安裝基板的焊點上。通過在焊盤側(cè)薄薄地鍍覆鎳(Ni)、金(Au) 等形成表面鍍層。
圖13示出在通過普通積層技術制造的配線基板中的外部連接焊 盤的實例。附圖中的外部連接焊盤101是由銅(Cu)等導電材料在 配線基板最外側(cè)的絕緣層102上形成的,并通過導通塞105連接到形 成于下層配線103一端的焊盤104上,上述導通塞105在與外部連接 焊盤101對應的位置處貫通絕緣層102。配線基板的最上表面設置有 阻焊層106,阻焊層106設置有用于露出外部連接焊盤101的一部分 上表面的開口部分107。表面鍍層108布置在外部連接焊盤101的外 露上表面上。
制造配線基板存在這樣一種方法:該方法不使用用于通過積層 技術在其兩側(cè)交替地形成配線層和絕緣層的芯板。該方法包括首先在 銅板等支撐部件上形成第一外部連接焊盤(將成為配線基板一側(cè)的焊 盤)以及表面鍍層,通過積層技術在表面鍍層和外部連接焊盤上形成 所需數(shù)量的絕緣層和配線層,接著形成第二外部連接焊盤(將成為配 線基板另一側(cè)的焊盤),然后移除支撐部件(例如,參見 JP-T-2003/039219)。
圖14示出通過該方法制造的配線基板一側(cè)(在支撐部件上首先 形成)的外部連接焊盤的實例。外部連接焊盤121的一側(cè)被表面鍍層 122覆蓋,并且表面鍍層122的一個表面從最外側(cè)的絕緣層123的表 面露出。外部連接焊盤121通過貫通絕緣層123的導通塞124連接到 設置在下層配線125一端的焊盤126上。配線基板另一側(cè)的外部連接 焊盤與參照圖13說明的配線基板相似。
根據(jù)參照圖13說明的現(xiàn)有技術配線基板的外部連接焊盤101, 開口部分107形成在阻焊層106上,其中,通過在形成外部連接焊盤 101后使阻焊層106覆蓋配線基板的整個表面,只露出外部連接焊盤 101的一部分以連接到半導體元件或外部電路上,從而形成該阻焊層 106。因此,外部連接焊盤101需要形成為大于阻焊層106的開口部 分107,這樣妨礙了配線的小型化。
此外,由于形成的外部連接焊盤101較大,因此位于外部連接 焊盤101和下層配線的焊盤104之間的樹脂(詳細地說,位于豎直虛 線、焊盤101的下表面、焊盤104的上表面以及導通塞105的側(cè)面之 間的樹脂)的量較大,并且由于樹脂加熱和收縮帶來的應力,會使導 通塞的連接可靠性降低。
在參照圖14說明的現(xiàn)有技術配線基板的外部連接焊盤121中, 可以解決上述問題。然而,表面鍍層122及其下方的焊盤121具有相 同的尺寸,因此,如圖15所示,由于表面鍍層122和絕緣層123之 間的應力而產(chǎn)生的裂紋131易于沿著焊盤121的側(cè)面延伸至絕緣層 123內(nèi)部,從而容易引起配線基板的性能降低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示例性實施例提供一種在一側(cè)具有外部連接焊盤的配 線基板,該配線基板不妨礙配線的小型化,能夠保持導通塞的連接可 靠性,并且不會引起所述配線基板的性能降低。
本發(fā)明的配線基板是如下配線基板,其包括:
絕緣層;
配線層,其設置在所述絕緣層的一側(cè);
外部連接焊盤,其設置在所述絕緣層的另一側(cè);
表面鍍層,其形成于所述外部連接焊盤上,用于連接到外部電 路上,其中,
所述外部連接焊盤的面積小于所述表面鍍層的面積。
本發(fā)明的配線基板可以通過一種制造配線基板的方法進行制 造,所述方法包括以下步驟:
在支撐部件上形成表面鍍層,并在形成于所述支撐部件上的表 面鍍層上形成外部連接焊盤;
將所述外部連接焊盤處理為使得所述外部連接焊盤的面積小于 所述表面鍍層的面積;
在所述支撐部件的形成有所述外部連接焊盤的表面上形成絕緣 層和配線層;以及
通過蝕刻法移除所述支撐部件。
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