[發(fā)明專利]自旋累積磁化反轉(zhuǎn)型存儲元件及自旋RAM有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810098862.7 | 申請日: | 2008-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN101325087A | 公開(公告)日: | 2008-12-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 三浦勝哉 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號: | G11C11/16 | 分類號: | G11C11/16;H01L43/08 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 熊志誠 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 自旋 累積 磁化 轉(zhuǎn)型 存儲 元件 ram | ||
1.一種存儲元件,其特征是,
具有:鐵磁性字線,
與上述鐵磁性字線交叉的非磁性位線,
與上述鐵磁性字線相對的布線,
在上述鐵磁性字線及上述非磁性位線的交叉部分和上述布線之間設 置的磁阻效應元件;
上述磁阻效應元件具有在上述布線側(cè)設置的第一鐵磁性層,在上述鐵磁性 字線側(cè)設置的第二鐵磁性層,在上述第一鐵磁性層和上述第二鐵磁性層之間設 置的非磁性層;
在寫入動作時,通過使電流在上述鐵磁性字線和上述非磁性位線之間流 動,使自旋從上述鐵磁性字線累積到非磁性位線,從而使上述第二鐵磁性層的 磁化方向反轉(zhuǎn);
在讀出動作時,使電流沿上述磁阻效應元件的膜厚方向流動,
其中,在上述寫入動作時,通過使電流從上述非磁性位線向上述鐵磁性字 線流動,從而使逆自旋從上述鐵磁性字線累積到上述非磁性位線上,通過使電 流從上述鐵磁性字線向上述非磁性位線流動,從而使順自旋從上述鐵磁性字線 累積到上述非磁性位線上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的存儲元件,其特征是,
由于累積上述逆自旋,上述第二鐵磁性層的磁化方向成為與上述鐵磁性字 線的磁化方向平行,
由于累積上述順自旋,上述第二鐵磁性層的磁化方向成為與上述鐵磁性字 線的磁化方向逆平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求1記載的存儲元件,其特征是,
在上述讀出動作時,電流在上述非磁性位線和上述布線之間流動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3記載的存儲元件,其特征是,
上述磁阻效應元件通過開關(guān)元件與源線電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4記載的存儲元件,其特征是,
上述開關(guān)元件是晶體管,
具有:與上述晶體管的柵極電連接的讀出字線;
與上述晶體管的漏極電連接的上述源線;
與上述晶體管的源極電連接的上述布線。
6.根據(jù)權(quán)利要求1記載的存儲元件,其特征是,
還具有在上述非磁性位線和上述鐵磁性字線之間設置的絕緣層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1記載的存儲元件,其特征是,
還具有在上述第二鐵磁性層和非磁性位線之間設置的絕緣層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1記載的存儲元件,其特征是,
上述磁阻效應元件是CPP-GMR或TMR。
9.一種自旋RAM,其特征是,
具有:第一鐵磁性字線,
與上述第一鐵磁性字線交叉的第一非磁性位線,
與上述第一鐵磁性字線相對的第一布線,
在上述第一鐵磁性字線及上述第一非磁性位線的交叉部分和上述第 一布線之間設置的第一磁阻效應元件,
在與同上述第一鐵磁性字線的上述第一非磁性位線交叉的面相反一 側(cè)設置的第二布線,
與第一鐵磁性字線平行設置的第二鐵磁性字線,
與上述第二鐵磁性字線交叉的第二非磁性位線,
在上述第二鐵磁性字線及上述第二非磁性位線的交叉部分和上述第 二布線之間設置的第二磁阻效應元件;
上述第一磁阻效應元件具有在上述第一布線側(cè)設置的第一鐵磁性層,在上 述第一鐵磁性字線側(cè)設置的第二鐵磁性層,在上述第一鐵磁性層和上述第二鐵 磁性層之間設置的第一非磁性層;
上述第二磁阻效應元件具有在上述第二布線側(cè)設置的第三鐵磁性層,在上 述第二鐵磁性字線側(cè)設置的第四鐵磁性層,在上述第三鐵磁性層和上述第四鐵 磁性層之間設置的第二非磁性層;
在寫入動作時,通過使電流在上述第一鐵磁性字線和第一非磁性位線之間 流動,使自旋從上述第一鐵磁性字線累積到上述第一非磁性位線上,從而使上 述第二鐵磁性層的磁化方向反轉(zhuǎn),
通過使電流在上述第二鐵磁性字線和第二非磁性位線之間流動,使自旋從 上述第二鐵磁性字線累積到上述第二非磁性位線上,從而使第四鐵磁性層的磁 化方向反轉(zhuǎn);
在讀出動作時,使電流沿上述第一磁阻效應元件及第二磁阻效應元件的膜 厚方向流動。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社日立制作所,未經(jīng)株式會社日立制作所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810098862.7/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





