[發明專利]一種實時監測反應室漏氣的方法

無效

• 申請號: 200810097800.4
• 申請日: 2008-05-29
• 公開（公告）號: CN101592543A
• 公開（公告）日: 2009-12-02
• 發明（設計）人: 黃海棟;段曦明
• 申請（專利權）人: 和艦科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: G01M3/02
• 分類號: G01M3/02
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司
• 代理人: 張春媛

技術領域

本發明涉及監測反應室漏氣的方法，尤其涉及一種實時監測反應室漏氣的方法。

背景技術

如圖1所示，目前反應室采用蝕刻終點偵測光譜儀，其只能偵測405nm和520nm波長的光譜。而且，反應室監測漏氣速率(Leak?rate)只在日常測機和機臺保養后測機才進行，無法對其進行實時監測。在生產時，反應室如果有漏氣，則會對產品的品質帶來一定的影響，如不能及時發現，將會影響較多的產品品質。

發明內容

本發明的目的在于實現實時監測反應室是否有漏氣。

本發明提供了一種實時監測應室漏氣的方法，該方法使用全波長光譜儀來實時監測反應室漏氣的狀況。

上述反應室是蝕刻反應室，反應室與外界空氣隔絕，形成封閉的真空環境。

上述反應室可以是LAM-RAINBOW?4428XL反應室。

上述全波長光譜儀監測到CN光譜，也就是387nm波長的光譜，則確定上述反應室漏氣。

上述CN是漏入反應室的氮氣(N2)與反應室中的碳(C)在等離子體作用下的反應生成物。

上述全波長光譜儀在蝕刻過程中實時監測反應室是否漏氣。

通過實時監測反應室是否漏氣，從而可監測處理過程的穩定性，降低甚至避免產品異常風險，提高產品品質。

附圖說明

圖1表示公知的反應室所采用的光譜測量示意圖；

圖2表示本發明的最佳實施例的采用全波長光譜儀進行光譜測量的示意圖；

圖3表示本發明的最佳實施例的各部件連接示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施方式，對本發明所述的一種實時監測反應室漏氣的方法作進一步的詳細說明。

本發明的一個實施例是將全波長光譜儀用于監測反應室漏氣情況的方法，該反應室可以是蝕刻反應室，其與外界空氣隔絕，形成封閉的真空環境，例如LAM-RAINBOW?4428XL反應室。LAM-RAINBOW?4428XL反應室(即蝕刻反應室)是等離子體模式，全波長光譜儀是用來偵測蝕刻終點的儀器。如圖2所示，全波長光譜儀與反應室之間通過纜線相連。如果有空氣從外界漏入該反應室，則便會有氮氣進入反應室中，氮氣會與反應室中的碳(C)反應生成CN。

上述CN光譜的波長為387nm。一旦反應室漏氣，全波長光譜儀就能偵測到387nm波長的光譜，從而在整個蝕刻過程中連續實時監測蝕刻反應室是否漏氣。

如圖3所示，反應室在工作前由操作員鍵入線條，偵測是否漏氣的線條(即387nm波長的光譜)就可以同偵測蝕刻終點的線條一起鍵入，如果反應室漏氣，387nm波長的光譜就會在機臺偵測的電腦屏幕上顯示出信號線條。

本發明所述的方法可以用于監測任何真空反應室的漏氣情況。

以上所述僅為本發明的較佳實施例，并非用來限定本發明的實施范圍；如果不脫離本發明的精神和范圍，對本發明進行修改或者等同替換的，均應涵蓋在本發明的權利要求的保護范圍當中。